WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007097151) DISPOSITIF A ONDE ACOUSTIQUE LIMITE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097151    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051004
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 23.01.2007
CIB :
H03H 9/145 (2006.01), H01L 41/09 (2006.01), H01L 41/18 (2006.01), H03H 3/08 (2006.01), H03H 9/25 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto6178555 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAMOTO, Daisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KANDO, Hajime [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TERAMOTO, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUYUTSUME, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAEKI, Masahiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YAMAMOTO, Daisuke; (JP).
KANDO, Hajime; (JP).
TERAMOTO, Akihiro; (JP).
FUYUTSUME, Toshiyuki; (JP).
SAEKI, Masahiko; (JP)
Mandataire : MIYAZAKI, Chikara; 6F, Daido Seimei Bldg., 5-4, Tanimachi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka5400012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-047070 23.02.2006 JP
Titre (EN) BOUNDARY ACOUSTIC WAVE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) DISPOSITIF A ONDE ACOUSTIQUE LIMITE ET SON PROCEDE DE FABRICATION
(JA) 弾性境界波装置及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a boundary acoustic wave device wherein loss is reduced. Specifically disclosed is a boundary acoustic wave device (1) comprising a first medium (2), a second medium (3) and an IDT electrode (4) arranged on the interface between the first medium (2) and the second medium (3). The IDT electrode (4) has an Au layer (11) as a main electrode layer, and an Ni layer (12) is arranged in contact with at least one side of the Au layer. A part of Ni constituting the Ni layer (12) is diffused into the Au layer (11) from the Ni-layer-side surface of the Au layer (11).
(FR)La présente invention concerne un dispositif à onde acoustique limite dans lequel la perte est réduite. La présente invention concerne spécifiquement un dispositif à onde acoustique limite (1) comprenant un premier milieu (2), un second milieu (3) et une électrode IDT (4) disposée sur l'interface entre le premier milieu (2) et le second milieu (3). L'électrode IDT (4) possède une couche d'Au (11) en tant que couche d'électrode principale, et une couche de Ni (12) est disposée en contact avec au moins un côté de la couche d'Au. Une partie du Ni constituant la couche de Ni (12) est diffusée dans la couche d'Au (11) à partir de la surface du côté de la couche de Ni de la couche d'Au (11).
(JA) 低損失化を果たすことが可能な弾性境界波装置を提供する。 第1の媒質2と、第2の媒質3と、第1,第2の媒質2,3間の界面に配置されたIDT電極4とを有し、IDT電極4が主電極層としてAu層11を有し、Au層の少なくとも一方表面に接するようにNi層12が積層されており、Ni層12を構成しているNiの一部がAu層11のNi層側表面からAu層11の内部に向かって拡散されている、弾性境界波装置1。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)