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1. (WO2007097046) PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE PARTICULE DE SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/097046    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308613
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 25.04.2006
CIB :
C01B 33/037 (2006.01), C01B 33/02 (2006.01), C30B 29/06 (2006.01)
Déposants : IHI COMPRESSOR AND MACHINERY CO., LTD. [JP/JP]; 17-9, Tsukiji 3-chome, Chuo-ku, Tokyo, 1040045 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
M. SETEK CO., LTD. [JP/JP]; 6-16, Yanaka 3-chome, Taito-ku, Tokyo 1100001 (JP) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, SY, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
TAKAHASHI, Katsumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TANAKA, Masaya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAITO, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KINAMI, Haruyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SASAKI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAHASHI, Katsumi; (JP).
TANAKA, Masaya; (JP).
SAITO, Hiroyuki; (JP).
KINAMI, Haruyuki; (JP).
SASAKI, Takeshi; (JP)
Mandataire : YAMADA, Tsunemitsu; 2nd Yahagi Bldg. 5-3, Uchikanda 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-048905 24.02.2006 JP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR TREATING SILICON PARTICLE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE PARTICULE DE SILICIUM
(JA) シリコン粒子の処理方法及び装置
Abrégé : front page image
(EN)Silicon particles contained in a waste liquid are highly efficiently separated with an inexpensive apparatus and enabled to be reused as a raw material for a single-crystal silicon ingot. The apparatus comprises: a recovery device (12) in which silicon particles are recovered from a silicon-particle-containing waste liquid discharged from a silicon ingot processor; a liquid mixture tank (1) in which an acid is mixed with the silicon particles to dissolve impurities and the resultant liquid mixture is stored; a filter-cloth type filter (2) which is connected to the liquid mixture tank (1) through a supply channel (8) and a return channel (10) and in which a cake of silicon particles is formed on the filter cloth to conduct filtration; a pure-water feeder (49) which supplies pure water to the liquid mixture tank (1); and a pressurized-air feeder (34) capable of switching between an operation in which pressurized air is supplied to the filtering side of the filter cloth to dehydrate the cake and an operation in which pressurized air is supplied to that side of the filter cloth which is opposite to the filtering side to separate the hydrated cake from the cloth and take it out. Thus, single-crystal silicon particles from which impurities have been removed are highly efficiently separated and recovered.
(FR)La présente invention concerne des particules de silicium contenues dans des déchets liquides qui sont séparées de manière extrêmement efficace à l'aide d'un appareil peu onéreux et inactivées afin d'être réutilisées sous la forme d'un matériau brut pour un lingot en silicium monocristallin. L'appareil comprend : un dispositif de récupération (12) dans lequel des particules de silicium sont récupérées depuis un déchet liquide contenant des particules de silicium déchargées depuis le processeur de lingot de silicium ; une cuve pour mélange liquide (1) dans laquelle un acide est mélangé avec les particules de silicium en vue de dissoudre les impuretés et le mélange liquide obtenu est stocké ; un filtre de type linge de filtration (2) qui est relié à la cuve pour mélange liquide (1) par un canal d'alimentation (8) et un canal de retour (10) et où un gâteau de particules de silicium se forme sur le linge de filtration pour conduire la filtration ; un alimentateur en eau pure (49) qui alimente en eau pure la cuve pour mélange liquide (1) ; et un alimentateur en air pressurisé (34) capable de basculer entre une opération dans laquelle l'air comprimé est introduit du côté filtration du linge de filtration pour déshydrater le gâteur et une opération au cours de laquelle l'air comprimé est appliqué sur le coté du linge de filtration opposé au côté de filtration en vue de séparer le gâteau hydraté du linge et de le récupérer. Ainsi, des particules de silicium monocristallin à partir desquelles des impuretés sont enlevées sont séparées et récupérées de manière éminemment efficace.
(JA)  排液中におけるシリコン粒子を安価な設備により高効率に分離して単結晶シリコンインゴットの製造用原料として再利用できるようにする。   シリコンインゴット加工装置から排出されるシリコン粒子を含む排液からシリコン粒子を回収する回収装置12と、シリコン粒子に酸を混合して不純物を溶解し溶解混合液を貯留する混合液タンク1と、混合液タンク1に供給流路8と戻し流路10を介して接続され、濾布上にシリコン粒子のケーキを形成して濾過を行う濾布式濾過機2と、混合液タンク1に純水を供給する純水供給手段49と、濾布の濾過面側に加圧空気を供給してシリコン粒子のケーキを脱水する操作と、濾布の反濾過面側に加圧空気を供給して脱水したケーキを脱落させて取り出す操作とを切替えて行い得る加圧空気供給手段34とを備え、不純物を除去した単結晶リコン粒子を高効率に分離・回収する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)