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1. (WO2007096250) DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/096250    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/051179
Date de publication : 30.08.2007 Date de dépôt international : 07.02.2007
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, 73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
FIOLKA, Damian [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DIECKMANN, Nils [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FIOLKA, Damian; (DE).
DIECKMANN, Nils; (DE)
Mandataire : FRANK, Hartmut; Reichspräsidentenstr. 21-25, 45470 Mülheim (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2006 008 357.1 21.02.2006 DE
60/775,101 21.02.2006 US
10 2006 028 489.5 21.06.2006 DE
Titre (DE) BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG EINER MIKROLITHOGRAPHISCHEN PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) ILLUMINATION DEVICE OF A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE POUR UNE INSTALLATION D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(DE)Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage weist wenigstens ein optisches Element (140, 240, 340, 440) auf, wobei auf dieses optische Element (140, 240, 340, 440) ein linear polarisiertes Eingangsbüschel trifft, welches ein Winkelspektrum aufweist, wobei ein maximaler Öffnungswinkel des Eingangsbüschels am Ort des optischen Elementes (140, 240, 340, 440) nicht mehr als 35 mrad beträgt, und wobei ein um die optische Achse (SA) rotationssymmetrischer Anteil einer in der Beleuchtungseinrichtung vorhandenen Doppelbrechung durch das optische Element (140, 240, 340, 440) wenigstens teilweise kompensiert wird.
(EN)An illumination device of a microlithographic projection exposure apparatus has at least one optical element (140, 240, 340, 440), wherein a linearly polarized input bundle having an angular spectrum impinges on this optical element (140, 240, 340, 440), wherein a maximum aperture angle of the input bundle at the location of the optical element (140, 240, 340, 440) is no more than 35 mrad, and wherein a portion - which is rotationally symmetrical about the optical axis (SA) - of double refraction that is present in the illumination device is at least partially compensated for by the optical element (140, 240, 340, 440).
(FR)Le dispositif d'éclairage d'une installation d'exposition par projection microlithographique selon l'invention comporte au moins un élément optique (140, 240, 340, 440), un faisceau d'entrée polarisé linéaire rejoignant l'élément optique (140, 240, 340, 440), ledit faisceau présentant un spectre angulaire, un angle d'ouverture maximal du faisceau d'entrée au niveau de l'élément optique (140, 240, 340, 440) ne dépassant pas 35 mrad, et une partie symétrique en rotation autour de l'axe optique (SA) d'une double réfraction présente dans le dispositif d'éclairage étant au moins partiellement compensée par l'élément optique (140, 240, 340, 440).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)