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1. (WO2007095573) PROCEDE ET SYSTEME DE SPECTROSCOPIE D'IMPEDANCE ELECTROCHIMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/095573    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/062130
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 14.02.2007
CIB :
G01N 17/02 (2006.01), G01N 27/27 (2006.01)
Déposants : NDSU RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 1735 NDSU Research Park Drive, P.O. Box 5002, Fargo, ND 58105-5002 (US) (Tous Sauf US).
GELLING, Victoria, Johnston [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GELLING, Victoria, Johnston; (US)
Mandataire : O'BANION, John, P.; O'Banion & Ritchey LLP, 400 Capitol Mall, Suite 1550, Sacramento, CA 95814 (US)
Données relatives à la priorité :
60/773,469 14.02.2006 US
Titre (EN) ELECTROCHEMICAL IMPEDANCE SPECTROSCOPY METHOD AND SYSTEM
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE SPECTROSCOPIE D'IMPEDANCE ELECTROCHIMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A dual cell Electrochemical Impedance System (EIS) testing apparatus and method for measuring coating integrity on various substrates. The counter reference electrode is in a first cell in electrical contact with the coating. The working electrode is in a second cell in electrical contact with the coating instead of the substrate material acting as the working electrode. Voltage is applied at the working electrode at varying frequencies and current is measured at the combined reference/counter electrode. From the known voltage and the measured current, the impedance of the coating is calculated. Coatings on non-metallic substrates can be measured with this apparatus. In one embodiment, the EIS cells are in the form of vacuum cups containing an electrolyte gel for testing non-horizontal coatings in the field. Also, known current can be applied to the working electrode and voltage measured at the counter reference electrode can be used to calculate coating impedance.
(FR)La présente invention concerne un appareil d'essai d'un système d'impédance électrochimique (EIS) à double cellule destiné à mesurer l'intégrité d'un revêtement sur divers substrats. La contre-électrode/électrode de référence se trouve dans une première cellule en contact électrique avec le revêtement. L'électrode de travail se trouve dans une seconde cellule en contact électrique avec le revêtement au lieu du matériau de substrat agissant comme électrode de travail. Une tension est appliquée au niveau de l'électrode de travail à des fréquences variables et le courant est mesuré au niveau de l'électrode de référence/contre-électrode combinée. A partir de la tension connue et du courant mesuré, l'impédance du revêtement est calculée. Des revêtements sur des substrats non métalliques peuvent être mesurés avec cet appareil. Dans un mode de réalisation, les cellules EIS ont la forme de coupes à vide contenant un gel électrolytique destiné à tester des revêtements non horizontaux dans le champ. De même, un courant connu peut être appliqué à l'électrode de travail et une tension mesurée au niveau de la contre-électrode/électrode de référence pour calculer l'impédance du revêtement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)