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1. (WO2007095322) COMPOSITIONS ET PROCEDES POUR LE POLISSAGE MECANICO-CHIMIQUE (CMP) DE SURFACES D'OXYDE D'INDIUM ET D'ETAIN
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/095322    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/003978
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 14.02.2007
CIB :
C09K 3/14 (2006.01)
Déposants : CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION [US/US]; Legal Department, 870 North Commons Drive, Aurora, IL 60504 (US)
Inventeurs : CARTER, Phillip; (US).
NAGUIB, Nevin; (US).
SUN, Fred; (US)
Mandataire : WESEMAN, Steven; Associate General Counsel, Intellectual Property, Cabot Microelectronics Corporation, 870 North Commons Drive, Aurora, IL 60504 (US)
Données relatives à la priorité :
60/773,105 14.02.2006 US
60/830,234 12.07.2006 US
Titre (EN) COMPOSITIONS AND METHODS FOR CMP OF INDIUM TIN OXIDE SURFACES
(FR) COMPOSITIONS ET PROCEDES POUR LE POLISSAGE MECANICO-CHIMIQUE (CMP) DE SURFACES D'OXYDE D'INDIUM ET D'ETAIN
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides chemical-mechanical polishing (CMP) compositions and methods for polishing an ITO surface. The compositions of the invention comprise a particulate zirconium oxide or colloidal silica abrasive, which has a mean particle size of not more than 150 nm, suspended in an aqueous carrier, which preferably has a pH of not more than 5. Preferably, the abrasive has a surface area in the range of 40 to 220 m2/g. The CMP compositions of the invention provide an acceptably low surface roughness when used to polish an ITO surface, providing clean and uniform surfaces.
(FR)La présente invention concerne des compositions de polissage mécano-chimique (CMP) et des procédés pour le polissage d'une surface ITO. Les compositions de l'invention comprennent de l'oxyde de zirconium en particules ou un abrasif de silice colloïdale, dont la taille moyenne des particules n'est pas supérieure à 150 nm, en suspension dans un véhicule aqueux, dont le pH est de préférence inférieur à 5. De préférence, l'abrasif a une surface de contact comprise dans la plage allant de 40 à 220 m2/g. Les compositions CMP de l'invention présentent une rugosité de surface acceptablement faible lorsqu'elles sont utilisées pour polir une surface ITO, et permettent d'obtenir des surfaces propres et uniformes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)