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1. (WO2007095141) PROCÉDÉ DE GRAVURE D'UNE PIÈCE À USINER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/095141    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/003617
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 09.02.2007
CIB :
B44C 1/22 (2006.01)
Déposants : AHEAD MAGNETICS, INC. [US/US]; 6410 Via Del Oro, San Jose, CA 95119 (US) (Tous Sauf US).
GUERRIER, Simone [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GUERRIER, Simone; (US)
Mandataire : LEEDS, Kenneth; P.O. Box 2819, Sunnyvale, CA 94087-0819 (US)
Données relatives à la priorité :
60/773,225 13.02.2006 US
11/388,031 23.03.2006 US
Titre (EN) METHOD FOR ETCHING A WORKPIECE
(FR) PROCÉDÉ DE GRAVURE D'UNE PIÈCE À USINER
Abrégé : front page image
(EN)A method for etching an AlTiC workpiece comprises forming a copper mask layer on the AlTiC, lithographically patterning said copper mask layer to thereby expose portions of the AlTiC, reactive ion etching the AlTiC using a process gas comprising argon and fluorine, and removing the mask layer. The walls of the portions of the AlTiC covered by the copper mask layer are vertical, even when etching is to a substantial depth.
(FR)Le procédé selon l'invention servant à graver une pièce à usiner en AlTiC consiste à réaliser une couche de masque en cuivre sur l'AlTiC, à tracer des motifs par lithographie sur ladite couche de masque en cuivre pour exposer des portions de l'AlTiC, à réaliser une gravure ionique réactive de l'AlTiC au moyen d'un gaz de traitement contenant de l'argon et du fluor, et à retirer la couche de masque. Les parois des parties de l'AlTiC recouvertes par la couche de masque en cuivre sont verticales, même lorsque la gravure atteint une profondeur substantielle.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)