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1. (WO2007094829) STRUCTURES ISOLEES ET FIXEES, MICRO ET NANOMETRIQUES ET PROCEDES ASSOCIES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094829    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/043305
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 07.11.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    04.06.2007    
CIB :
A61F 2/00 (2006.01), A61N 1/05 (2006.01)
Déposants : THE UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL [US/US]; 308 Bynum Hall, Campus Box 4105, Chapel Hill, NC 27599-4105 (US) (Tous Sauf US).
DESIMONE, Joseph, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
ROTHROCK, Ginger, Denison [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DESIMONE, Joseph, M.; (US).
ROTHROCK, Ginger, Denison; (US)
Mandataire : CUNNINGHAM, Michelle, L.; Alston & Bird LLP, Bank of America Plaza, 101 South Tryon Street, Suite 4000, Charlotte, North Carolina 28280-4000 (US)
Données relatives à la priorité :
60/734,228 07.11.2005 US
60/762,802 27.01.2006 US
60/799,876 12.05.2006 US
Titre (EN) ISOLATED AND FIXED MICRO AND NANO STRUCTURES AND METHODS THEREOF
(FR) STRUCTURES ISOLEES ET FIXEES, MICRO ET NANOMETRIQUES ET PROCEDES ASSOCIES
Abrégé : front page image
(EN)Discrete micro and nanoscale particles are formed in predetermined shapes and sizes and predetermined size dispersions. The particles can also be attached to a film to form arrays of particles on a film. The particles are formed from molding techniques that can include high throughput and continuous particle molding.
(FR)L'invention concerne des particules discrètes micro et nanométriques formées avec des formes et des tailles prédéterminées et des dispersions de taille prédéterminées. Les particules peuvent également être attachées à un film pour former des réseaux de particules sur un film. Les particules sont formées par des techniques de moulage pouvant comprendre un moulage de particule en continu et à haut rendement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)