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1. (WO2007094439) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE/CONTROLE DE DIMENSIONS D'ECHANTILLON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094439    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/052795
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 09.02.2007
CIB :
G01B 15/00 (2006.01), G06T 1/00 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP) (Tous Sauf US).
MOROKUMA, Hidetoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIYAMA, Akiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUOKA, Ryoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUTANI, Takumichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TOYODA, Yasutaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MOROKUMA, Hidetoshi; (JP).
SUGIYAMA, Akiyuki; (JP).
MATSUOKA, Ryoichi; (JP).
SUTANI, Takumichi; (JP).
TOYODA, Yasutaka; (JP)
Mandataire : INOUE, Manabu; c/o Hitachi, Ltd., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-040110 17.02.2006 JP
Titre (EN) SAMPLE DIMENSION INSPECTING/MEASURING METHOD AND SAMPLE DIMENSION INSPECTING/MEASURING APPARATUS
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE/CONTROLE DE DIMENSIONS D'ECHANTILLON
(JA) 試料寸法検査・測定方法、及び試料寸法検査・測定装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a sample dimension measuring method and a sample dimension measuring apparatus for detecting an edge position of a two-dimensional pattern constantly at the same accuracy irrespective of the direction of the edge. A change of the signal waveform of a secondary electron is corrected by the scanning direction of an electron beam to the pattern edge direction of a pattern to be inspected. Furthermore, in the case of changing the scanning direction of the electron beam in accordance with the pattern direction, errors of the scanning direction and the scanning position are corrected. Thus, irrespective of the scanning direction of the electron beam, sufficient edge detection accuracy can be obtained.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif de mesure de dimensions d'échantillon permettant de détecter une position de bord d'un motif bidimensionnel de manière constante avec la même précision sans égard à la direction du bord. Un changement de la forme d'onde de signal d'un électron secondaire est corrigé par la direction de balayage d'un faisceau d'électrons en la direction de bord d'un motif à contrôler. En outre, en cas de changement de la direction de balayage du faisceau d'électrons selon la direction de bord, des erreurs de la direction et de la position de balayage sont corrigées. Ainsi, quelle que soit la direction de balayage du faisceau d'électrons, on peut obtenir une précision de détection de bord suffisante.
(JA)本発明の主たる目的の1つは、二次元パターンのエッジをエッジの方向に関わらず常に同じ精度でエッジ位置を検出する試料寸法測定方法、及び試料寸法測定装置を提供することにある。本発明によれば、上記目的を達成するために、検査対象パターンのパターンエッジ方向に対する電子ビームの走査方向による、二次電子の信号波形の変化を補正することを提案する。また、電子ビームの走査方向を測定するパターンの方向にあわせて変化させる場合は、走査方向と走査位置の誤差を補正することを提唱する。このような構成によれば、電子ビームの走査方向に関わらず、十分なエッジ検出精度を得ることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)