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1. (WO2007094225) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN COMPOSE 5-ALCOXY-4-HYDROXYMETHYLPYRAZOLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094225    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/052184
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 08.02.2007
CIB :
C07D 231/20 (2006.01)
Déposants : IHARA CHEMICAL INDUSTRY CO., LTD. [JP/JP]; 4-26, Ikenohata 1-chome, Taito-ku, Tokyo 1100008 (JP) (Tous Sauf US).
UCHIDA, Yukio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ATSUMI, Naoya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UCHIDA, Yukio; (JP).
ATSUMI, Naoya; (JP)
Mandataire : KOBAYASHI, Masato; ASK Building 4-A 4-1, Tsukudocho Sinjuku-ku, Tokyo 162-0821 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-037245 14.02.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCTION OF 5-ALKOXY-4-HYDROXYMETHYLPYRAZOLE COMPOUND
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN COMPOSE 5-ALCOXY-4-HYDROXYMETHYLPYRAZOLE
(JA) 5-アルコキシ-4-ヒドロキシメチルピラゾール化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a process for production of a 5-alkoxy-4-hydroxymethylpyrazole compound with good efficiency in a simple manner. A process for production of a 5-alkoxy-4-hydroxymethylpyrazole compound represented by the general formula (3): (3) [wherein R1 represents a substituent such as an alkyl group and an aryl group which may have a substituent; R2 represents an electron-withdrawing group; and R3 represents a substituent such as an alkyl group which may have a substituent] comprises the step of reacting a pyrazole compound represented by the general formula (1): (1) [wherein R1 and R2 are as defined above] with a compound represented by the general formula (2): L-R3 (2) [wherein L represents a leaving group; and R3 is as defined above] in the presence of a base and formaldehyde.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d'un composé 5-alcoxy-4-hydroxyméthylpyrazole avec un bon rendement de façon simple. Un procédé de production d'un composant 5-alcoxy-4-hydroxyméthylpyrazole représenté par la formule générale (3) : (3) [dans laquelle R1 représente un substituant tel qu'un groupe alkyle et un groupe aryle qui peuvent avoir un substituant; R2 représente un groupe attracteur d'électrons; et R3 représente un substituant tel qu'un groupe alkyle qui peut avoir un substituant] comprend l'étape consistant à faire réagir un composé pyrazole représenté par la formule générale (1) : (1) [dans laquelle R1 et R2 sont tels que définis ci-dessus] avec un composé représenté par la formule générale (2) : L-R3 (2) [dans laquelle L représente un groupe partant; et R3 est tel que défini ci-dessus] en présence d'une base et de formaldéhyde.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)