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1. (WO2007094198) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'AFFICHAGE, MASQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094198    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051974
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 06.02.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G02B 17/08 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KUMAZAWA, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKUI, Tatsuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUMAZAWA, Masato; (JP).
FUKUI, Tatsuo; (JP)
Mandataire : FUJIMOTO, Yoshihiro; VerdyNOGIZAKA 2F 14-7, Minamiaoyama 1-chome Minato-ku, Tokyo 1070062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-039446 16.02.2006 JP
2007-014631 25.01.2007 JP
Titre (EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, DISPLAY MANUFACTURING METHOD, MASK, AND MASK MANUFACTURING METHOD
(FR) SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, DISPOSITIF ET PROCEDE D'EXPOSITION, PROCEDE DE FABRICATION D'AFFICHAGE, MASQUE ET PROCEDE DE FABRICATION DE MASQUE
(JA) 投影光学系、露光装置、露光方法、ディスプレイの製造方法、マスク及びマスクの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure device moves a first object (M) and a second object (P) along a scan direction and performs a projection exposure on the second object. The exposure device includes a first projection optical system (PL10) for forming an enlarged image of one part of the first object in a first region as one part of the region on the second object; and a second projection optical system (PL11) for forming an enlarged image of a part different from the aforementioned one part of the first object on a second region different from the aforementioned one part on the second object. The exposure device further includes a first stage (MST) for holding the first object and making at least one of the aforementioned one part and the aforementioned different part movable along a non-scan direction. The first region and the second region are arranged at a predetermined interval along the non-scan direction intersecting the scan direction.
(FR)La présente invention concerne un dispositif d'exposition qui déplace un premier objet (M) et un second objet (P) le long d'une direction de balayage et effectue une exposition par projection sur le second objet. Le dispositif d'exposition inclut un premier système optique de projection (PL10) pour former une image agrandie d'une partie du premier objet dans une première région en tant qu'une partie de la région sur le second objet ; et un second système optique de projection (PL11) pour former une image agrandie d'une partie différente de la partie susmentionnée du premier objet sur une seconde région différente de la partie susmentionnée sur le second objet. Le dispositif d'exposition inclut en outre un premier étage (MST) pour soutenir le premier objet et pour rendre au moins une de la partie susmentionnée et la partie différente susmentionnée mobile le long d'une direction de non balayage. La première région et la seconde région sont disposées à un intervalle prédéterminé le long de la direction de non balayage croisant la direction de balayage.
(JA) 本発明の露光装置は、第1物体Mと第2物体Pとを走査方向に沿って移動させつつ前記第2物体上に投影露光を行う露光装置において、前記第2物体上の一部の領域である第1領域に前記第1物体上の一部分の拡大像を形成する第1の投影光学系PL10と、前記第2物体上の前記一部の領域とは異なる第2領域に前記第1物体上の前記一部分とは異なる部分の拡大像を形成する第2の投影光学系PL11とを備え、前記第1物体を保持し、前記第1物体の前記一部分及び前記異なる部分のうちの少なくとも一方を、前記非走査方向に沿って移動可能にする第1ステージMSTとを備え、前記第1領域と前記第2領域とは、前記走査方向と交差する非走査方向に沿って所定の間隔で配列される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)