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1. (WO2007094192) COMPOSITION DE RESIST POUR LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094192    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051945
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 05.02.2007
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa2110012 (JP) (Tous Sauf US).
IRIE, Makiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWAI, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IRIE, Makiko; (JP).
IWAI, Takeshi; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 1048453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-041116 17.02.2006 JP
2006-122330 26.04.2006 JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RESIST POUR LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST
(JA) 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a resist composition for immersion lithography comprising: a resin component (A) whose alkali solubility can vary by the action of an acid; and an acid-generator component (B) which can generate an acid when exposed to light. The resin component (A) contains a fluorine atom and comprises a resin (A1) and a resin (A2), wherein the resin (A1) has no acid-dissociating group and the resin (A2) has a constituent unit (a’) derived from acrylic acid and contains no fluorine atom.
(FR)L'invention concerne une composition de résist pour lithographie par immersion comprenant : un composant de résine (A) dont la solubilité dans les alcalis peut varier par l'action d'un acide ; et un composant générateur d'acide (B) capable de générer un acide lors d'une exposition à la lumière. Le composant de résine (A) contient un atome de fluor et comprend une résine (A1) et une résine (A2), ladite résine (A1) ne comportant pas de groupement dissociant les acides et la résine (A2) comportant une unité constitutive (a') dérivée de l'acide acrylique et ne contenant pas d'atomes de fluor.
(JA) 本発明の液浸露光用レジスト組成物は、酸の作用によりアルカリ溶解性が変化する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含む液浸露光用レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、フッ素原子を含有し、かつ酸解離性基を有さない樹脂(A1)と、アクリル酸から誘導される構成単位(a’)を有し、かつフッ素原子を含有しない樹脂(A2)とを含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)