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1. (WO2007094160) procédé et appareil de chanfreinage de substrat de verre
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094160    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051308
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 26.01.2007
CIB :
C03B 29/08 (2006.01), B23K 26/00 (2006.01), B23K 26/14 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
KUROIWA, Yutaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IGA, Motoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ITO, Setsuro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUKASAWA, Yasuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Mitsuru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KUROIWA, Yutaka; (JP).
IGA, Motoichi; (JP).
ITO, Setsuro; (JP).
FUKASAWA, Yasuji; (JP).
WATANABE, Mitsuru; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square 17 Kanda-konyacho, Chiyoda-ku Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-038018 15.02.2006 JP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CHAMFERING GLASS SUBSTRATE
(FR) procédé et appareil de chanfreinage de substrat de verre
(JA) ガラス基板の面取り方法および装置
Abrégé : front page image
(EN)Novel method and apparatus for chamfering a glass substrate are provided for improving productivity by improving bending strength and shock strength of an end plane of the glass substrate and by preventing breakage and chipping of the glass substrate in a glass substrate manufacturing process. In the method and apparatus for chamfering the glass substrate by using laser beams, the end plane of the glass substrate is irradiated with the laser beams, and a cooling gas is blown to the laser beam irradiation area on the glass substrate.
(FR)Procédé et appareil novateurs de chanfreinage d'un substrat de verre permettant d'améliorer la productivité en augmentant la résistance au cintrage et la résistance aux impacts d'un plan d'extrémité du substrat de verre et en empêchant le bris et le burinage du substrat de verre dans un processus de fabrication de substrat de verre. Dans le procédé et l'appareil de chanfreinage du substrat de verre à l'aide de faisceaux laser, le plan d'extrémité du substrat de verre est irradié par les faisceaux laser, et un gaz de refroidissement est dirigé vers la zone d'irradiation de faisceau laser sur le substrat de verre.
(JA) ガラス基板の端面の曲げ強度や衝撃強度を向上させて、ガラス基板製造プロセスにおけるガラス基板の割れや欠けを防止し、生産性を向上させることができる新規なガラス基板の面取り方法および装置を提供することを目的とする。  レーザ光線による面取り方法であって、レーザ光線をガラス基板の端面に対し照射するとともに、前記ガラス基板のレーザ光線照射部に冷却気体を送風するレーザ光線によるガラス基板の面取り方法および装置。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)