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1. (WO2007094114) APPAREIL DE TRAITEMENT CONTINU PAR UN GAZ A HAUTE TEMPERATURE DE PARTICULES ET PROCEDE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/094114    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/324156
Date de publication : 23.08.2007 Date de dépôt international : 04.12.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.06.2007    
CIB :
B01J 8/24 (2006.01), B01J 6/00 (2006.01), C01B 31/02 (2006.01), F26B 3/08 (2006.01), F26B 17/10 (2006.01), F27B 15/04 (2006.01), F27B 15/10 (2006.01), F27B 15/16 (2006.01), H01M 4/04 (2006.01)
Déposants : KUREHA CORPORATION [JP/JP]; 3-2, Nihonbashi-Hamacho 3-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038552 (JP) (Tous Sauf US).
OHASHI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAGOSHIMA, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIGAKI, Yoshiki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OHASHI, Hiroaki; (JP).
KAGOSHIMA, Masaru; (JP).
SHIGAKI, Yoshiki; (JP)
Mandataire : SHAMOTO, Ichio; YUASA AND HARA, Section 206, New Ohtemachi Bldg., 2-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-036170 14.02.2006 JP
Titre (EN) CONTINUOUS PARTICULATE HIGH-TEMPERATURE GAS TREATMENT APPARATUS AND METHOD OF TREATING
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT CONTINU PAR UN GAZ A HAUTE TEMPERATURE DE PARTICULES ET PROCEDE DE TRAITEMENT
(JA) 連続式粉粒体高温ガス処理装置および処理方法
Abrégé : front page image
(EN)A continuous particulate high-temperature gas treatment apparatus with which homogeneous high-temperature gas treatment of particulate can be carried out; a method of treating particulate with the use of the continuous particulate high-temperature gas treatment apparatus. There is provided a continuous particulate high-temperature gas treatment apparatus comprising raw material supply aperture (1) for feeding of a raw material particulate from the superior portion of the apparatus; treating gas supply aperture (2) for feeding of a treating gas; product discharge aperture (3) for discharging of a product having undergone treatment from the inferior portion of the apparatus; treating chamber (4) for treating of the particulate with the treating gas; gas/solid separating chamber (5) disposed on the superior portion of the treating chamber (4) in the relationship of fluid communication; and cooling chamber (6) disposed under the inferior portion of the treating chamber (4) in the relationship of fluid communication. The circumference of the superior portion of the treating chamber (4) is fitted with heating means (7). The circumference of the cooling chamber (6) is fitted with cooling means (8). The apparatus is so constructed that in the driving thereof, moving bed (4a) is formed in the inferior portion of the treating chamber (4) and fluid bed (4b) is continuously formed above the moving bed (4a).
(FR)La présente invention concerne un appareil continu de traitement par un gaz à haute température de particules dans lequel un traitement homogène par un gaz à haute température des particules peut être effectué ; un procédé de traitement des particules utilisant l'appareil de traitement continu par un gaz à haute température de particules. La présente invention concerne un appareil de traitement continu par un gaz à haute température de particules comprenant une ouverture d'alimentation en matière première (1) pour l'alimentation de particules de matière première provenant de la partie supérieure de l'appareil ; une ouverture d'alimentation en gaz de traitement (2) pour l'alimentation d'un gaz de traitement ; une ouverture de décharge du produit (3) pour la décharge d'un produit ayant subi le traitement provenant de la partie inférieure de l'appareil ; une chambre de traitement (4) pour le traitement des particules avec le gaz de traitement ; une chambre de séparation des gaz et des solides (5) disposée sur la partie supérieure de la chambre de traitement (4) dans un rapport de communication fluide ; et une chambre froide (6) disposée sous la partie inférieure de la chambre de traitement (4) dans un rapport de communication fluide. La circonférence de la partie supérieure de la chambre de traitement (4) est équipée de moyens de chauffage (7). La circonférence de la chambre froide (6) est équipée de moyens de refroidissement (8). L'appareil est ainsi construit de façon à ce que lors de son fonctionnement, un lit mobile (4a) soit formé dans la partie inférieure de la chambre de traitement (4) et un lit fluide (4b) soit formé de manière continue au-dessus du lit mobile (4a).
(JA) 粉粒体の均一な高温ガス処理を行うことができる連続式粉粒体高温ガス処理装置および該連続式粉粒体高温ガス処理を用いて粉粒体を処理する方法を提供することを目的とする。  装置上部から原料粉粒体を供給する原料供給口1と、処理ガスを供給する処理ガス供給口2と、装置下部から処理後の製品を排出する製品排出口3と、粉粒体を処理ガスで処理する処理室4と、該処理室4の上部に流体連通状態に設けられている気固分離室5と、該処理室4の下部に流体連通状態に設けられている冷却室6を具備する。処理室4上部外周には加熱手段7が設けられ、冷却室6外周には冷却手段8が設けられ、装置運転時に処理室4下部に移動層4aが形成され、移動層4aの上部に流動層4bが連続して形成されるように構成されている。                                                                           
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)