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1. (WO2007092229) TRANSFORMATION DE DONNÉES DE MÉTROLOGIE EN PROVENANCE D'UN SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS AU MOYEN D'UNE ANALYSE MULTIVARIABLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/092229    N° de la demande internationale :    PCT/US2007/002665
Date de publication : 16.08.2007 Date de dépôt international : 30.01.2007
CIB :
G01N 31/00 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [US/US]; TBS Broadcast Center, 3-6 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107 (JP) (Tous Sauf US).
VUONG, Vi [US/US]; (US) (US Seulement).
BAO, Junwei [CN/US]; (US) (US Seulement).
CHEN, Yan [CN/US]; (US) (US Seulement).
HEIKO, Weichert [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
EGRET, Sebastien [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : VUONG, Vi; (US).
BAO, Junwei; (US).
CHEN, Yan; (US).
HEIKO, Weichert; (DE).
EGRET, Sebastien; (FR)
Mandataire : YIM, Peter J.; Morrison & Foerster Llp, 425 Market Street, San Francisco, CA 94105-2482 (US)
Données relatives à la priorité :
11/349,773 07.02.2006 US
Titre (EN) TRANSFORMING METROLOGY DATA FROM A SEMICONDUCTOR TREATMENT SYSTEM USING MULTIVARIATE ANALYSIS
(FR) TRANSFORMATION DE DONNÉES DE MÉTROLOGIE EN PROVENANCE D'UN SYSTÈME DE TRAITEMENT DE SEMI-CONDUCTEURS AU MOYEN D'UNE ANALYSE MULTIVARIABLE
Abrégé : front page image
(EN)Metrology data from a semiconductor treatment system is transformed using multivariate analysis. In particular, a set of metrology data measured or simulated for one or more substrates treated using the treatment system is obtained. One or more essential variables for the obtained set of metrology data is determined using multivariate analysis. A first metrology data measured or simulated for one or more substrates treated using the treatment system is obtained. The first obtained metrology data is not one of the metrology data in the set of metrology data earlier obtained. The first metrology data is transformed into a second metrology data using the one or more of the determined essential variables.
(FR)La présente invention concerne la transformation de données de métrologie en provenance d'un système de traitement à semi-conducteurs au moyen d'une analyse multivariable. En particulier, un ensemble de données de métrologie mesurées ou simulées pour un ou des substrats traités au moyen du système de traitement est obtenu. Un ou plusieurs variables essentiels pour l'ensemble obtenu de données de métrologie sont déterminés au moyen d'analyse multivariable. Une première donnée de métrologie mesurée ou simulée pour un ou des substrats traités au moyen du système de traitement est obtenue. La première donnée de métrologie obtenue n'est pas une des données de métrologie dans l'ensemble de données de métrologie obtenu précédemment. La première donnée de métrologie est transformée en une seconde donnée de métrologie au moyen du ou des plusieurs variables essentiels déterminés.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)