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1. (WO2007091479) PROCEDE DE PROTECTION D'UNE BASE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/091479    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051690
Date de publication : 16.08.2007 Date de dépôt international : 01.02.2007
CIB :
B08B 17/02 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01)
Déposants : SUSTAINABLE TITANIA TECHNOLOGY INC. [JP/JP]; Olive Bldg. 1F, 5-38-6, Yoyogi, Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP) (Tous Sauf US).
OGATA, Shiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OGATA, Shiro; (JP)
Mandataire : SHIGA, Masatake; 2-3-1, Yaesu Chuo-ku, Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-033575 10.02.2006 JP
Titre (EN) METHOD FOR PROTECTING BASE
(FR) PROCEDE DE PROTECTION D'UNE BASE
(JA) 基体の保護方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a novel method for protecting a base by preventing or reducing color deterioration or discoloration of a base over time. This method is characterized by arranging a positively charged material on the surface of the base or in the surface layer of the base.
(FR)L'invention concerne un nouveau procédé de protection d'une base par prévention ou réduction de la détérioration de couleur ou de la décoloration d'une base avec le temps. Ce procédé est caractérisé en ce qu'il consiste à disposer un matériau chargé positivement sur la surface de la base ou dans la couche de surface de la base.
(JA) 本発明は、基体の経時的な退色乃至変色を防止乃至低減して、基体を保護する新たな手法を提供することを目的とし、基体表面上又は基体表面層中に正電荷物質を配置することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)