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1. (WO2007091441) composition photosensible, matériau photosensible pour plaque lithographique, et procédé d'enregistrement sur un matériau de plaque lithographique
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/091441    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051371
Date de publication : 16.08.2007 Date de dépôt international : 29.01.2007
CIB :
G03F 7/027 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. [JP/JP]; 26-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630512 (JP) (Tous Sauf US).
KONUMA, Taro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KONUMA, Taro; (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-032202 09.02.2006 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE MATERIAL FOR LITHOGRAPHIC PLATE, AND METHOD OF RECORDING IN LITHOGRAPHIC PLATE MATERIAL
(FR) composition photosensible, matériau photosensible pour plaque lithographique, et procédé d'enregistrement sur un matériau de plaque lithographique
(JA) 感光性組成物、感光性平版印刷版材料及び平版印刷版材料の記録方法
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive material for lithographic plates which is suitable for use in exposure to a laser light having a wavelength of 350-450 nm, has satisfactory stability to safety lights, and is excellent in chemical resistance, linearity, and printing performance; and a photosensitive composition giving the photosensitive material for lithographic plates. This photosensitive material for lithographic plates comprises a photosensitive composition comprising (A) an addition-polymerizable compound containing an ethylenic double bond, (B) a photopolymerization initiator, (C) a polymeric binder, and (D) a dye having a maximum absorption wavelength of 350-450 nm, and is characterized in that the addition-polymerizable compound (A) containing an ethylenic double bond comprises a compound represented by the following general formula (1) and the photopolymerization initiator (B) comprises a biimidazole compound.
(FR)L'invention concerne un matériau photosensible pour plaques lithographiques adéquat pour une utilisation exposé à une lumière laser d'une longueur d'onde de 350-450 nm, d'une stabilité satisfaisant aux feux de sécurité, et excellent en matière de résistance chimique, de linéarité, et de performances d'impression; et une composition photosensible constituant le matériau photosensible pour plaques lithographiques. Le matériau photosensible pour plaques lithographiques comprend une composition photosensible contenant (A) un composé polymérisable d'addition contenant une double liaison d'éthylène, (B) un initiateur de photopolymérisation, (C) un liant polymère, et (D) une teinture possédant une longueur d'onde d'absorption maximale de 350-450 nm, et est caractérisé en ce que le composé polymérisable d'addition (A) contenant une double liaison d'éthylène comprend un composé représenté par la formule générale (1) suivante et en ce que l'initiateur de photopolymérisation (B) comprend un composé de biimidazole.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)