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1. (WO2007089012) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PHOTORÉCEPTEUR ÉLECTROPHOTOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/089012    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051886
Date de publication : 09.08.2007 Date de dépôt international : 30.01.2007
CIB :
G03G 5/147 (2006.01), G03G 5/00 (2006.01), G03G 5/04 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 3-30-2, Shimomaruko, Ohta-ku, Tokyo 1468501 (JP) (Tous Sauf US).
UEMATSU, Hiroki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHIMADA, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAHARA, Masataka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OGAKI, Harunobu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OCHI, Atsushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MARUYAMA, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TERAMOTO, Kyoichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIKUCHI, Toshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KOGANEI, Akio [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUMIDA, Takayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UEMATSU, Hiroki; (JP).
SHIMADA, Akira; (JP).
KAWAHARA, Masataka; (JP).
OGAKI, Harunobu; (JP).
OCHI, Atsushi; (JP).
MARUYAMA, Akio; (JP).
TERAMOTO, Kyoichi; (JP).
KIKUCHI, Toshihiro; (JP).
KOGANEI, Akio; (JP).
SUMIDA, Takayuki; (JP)
Mandataire : OKABE, Masao; No. 602, Fuji Bldg. 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-022896 31.01.2006 JP
2006-022898 31.01.2006 JP
2006-022899 31.01.2006 JP
2007-016218 26.01.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING ELECTROPHOTOGRAPHIC PHOTORECEPTOR
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN PHOTORÉCEPTEUR ÉLECTROPHOTOGRAPHIQUE
(JA) 電子写真感光体の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a method for manufacturing an electrophotographic photoreceptor that can optimize the surface shape of an electrophotographic photoreceptor for cleaning property improvement purposes. This method comprises bringing the surface of an electrophotographic photoreceptor, comprising at least a charge transport layer provided on a cylindrical support, into pressure contact with a mold having fine surface irregularities to transfer the fine surface irregularities onto the surface of the electrophotographic photoreceptor. The temperatures of the mold and the support are controlled so as to satisfy a requirement of T3 < T1 < T2 wherein T1 represents the glass transition temperature of the charge transport layer, ºC; T2 represents the temperature of the mold, ºC; and T3 represents the temperature of the support, ºC.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un photorécepteur électrophotographique qui permet d'optimiser la forme de la surface d'un photorécepteur électrophotographique afin d'améliorer les propriétés de nettoyage. Ce procédé consiste à amener la surface d'un photorécepteur électrophotographique, comprenant au moins une couche de transport de charge disposée sur un support cylindrique, en contact à pression avec un moule présentant des irrégularités superficielles fines afin de transférer ces dernières sur la surface du photorécepteur électrophotographique. Les températures du moule et du support sont régulées de façon à remplir une condition de T3 < T1 < T2, où T1 représente la température de transition vitreuse de la charge de transport en ºC ; T2 représente la température du moule en ºC ; et T3 représente la température du support en ºC.
(JA)クリーニング性の向上を目的とした電子写真感光体の表面形状の最適化にあたり、その電子写真感光体の製造方法を提供する。円筒状支持体上に少なくとも電荷輸送層を有する電子写真感光体の表面と、微細な凹凸形状を有するモールドを加圧接触させることにより、該微細な凹凸形状を該電子写真感光体の表面に転写する電子写真感光体の製造方法において、該電荷輸送層のガラス転移温度をT1℃、該モールドの温度をT2℃、該支持体の温度をT3℃としたとき、T3<T1<T2となるように該モールドおよび該支持体の温度を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)