WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007088176) SOURCE LUMINEUSE ÉTENDUE ET ÉLECTRIQUEMENT MODULABLE, DISPOSITIF DE MESURE POUR CARACTÉRISER UN SEMI-CONDUCTEUR COMPORTANT UNE TELLE SOURCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/088176    N° de la demande internationale :    PCT/EP2007/050950
Date de publication : 09.08.2007 Date de dépôt international : 31.01.2007
CIB :
G01R 31/265 (2006.01), G01R 31/28 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITE PAUL CEZANNE AIX-MARSEILLE III [FR/FR]; 3 Avenue Robert Schuman, F-13628 Aix en Provence Cedex 1 (FR) (Tous Sauf US).
PALAIS, Olivier [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
PASQUINELLI, Marcel [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : PALAIS, Olivier; (FR).
PASQUINELLI, Marcel; (FR)
Mandataire : SCHMIT, Christian, Norbert; 111 Cours du Médoc, F-33300 Bordeaux (FR)
Données relatives à la priorité :
0650388 03.02.2006 FR
Titre (EN) ELECTRICALLY-MODULATABLE EXTENDED LIGHT SOURCE AND A MEASUREMENT DEVICE FOR CHARACTERISING A SEMICONDUCTOR INCLUDING ONE SUCH SOURCE
(FR) SOURCE LUMINEUSE ÉTENDUE ET ÉLECTRIQUEMENT MODULABLE, DISPOSITIF DE MESURE POUR CARACTÉRISER UN SEMI-CONDUCTEUR COMPORTANT UNE TELLE SOURCE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a light source for injecting excess carriers into a semiconductor wafer, fully illuminating a surface of the wafer (4). According to the invention, the source (1) includes at least one set of point sources (2) which are spaced apart at regular intervals along the X and Y axes, such that the source emits a monochromatic beam of a size that is at least equal to that of the semiconductor wafer surface to be illuminated. Each of the point sources (2) is sinusoidally modulated by a common electrical modulator (3), the distance (d) between two point sources and the distance (D) between the source (1) and the semiconductor wafer surface (4) to be illuminated being selected such that the monochromatic light beam uniformly illuminates said surface.
(FR)L'invention concerne une source lumineuse destinée à injecter des porteurs en excès dans une tranche semi-conductrice en éclairant entièrement une surface de ladite tranche (4). Selon l'invention, cette source (1) comporte au moins un ensemble de sources ponctuelles (2) espacées à intervalles réguliers dans la direction X et dans la direction Y, de sorte que ladite source émette un faisceau monochromatique dont la dimension est au moins égale à celle de la surface à éclairer de ladite tranche semi-conductrice, chacune desdites sources ponctuelles (2) étant modulée sinusoidally modpar un modulateur électrique commun (3), la distance (d) entre deux source ponctuelles et la distance (D) entre la source (1) et la surface à éclairer de ladite tranche semi-conductrice (4) étant choisies de sorte que le faisceau lumineux monochromatique éclaire de manière uniforme la surface à éclairer de ladite tranche semi-conductrice.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)