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1. (WO2007087067) PRE-NETTOYAGE AU PLASMA A DISTANCE AVEC UNE FAIBLE PRESSION EN HYDROGENE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/087067    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/049440
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 28.12.2006
CIB :
B08B 3/00 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
FU, Xinyu [CN/US]; (US) (US Seulement).
FORSTER, John [US/US]; (US) (US Seulement).
YU, Jick [US/US]; (US) (US Seulement).
BHATNAGAR, Ajay [US/US]; (US) (US Seulement).
GOPALRAJA, Praburam [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FU, Xinyu; (US).
FORSTER, John; (US).
YU, Jick; (US).
BHATNAGAR, Ajay; (US).
GOPALRAJA, Praburam; (US)
Mandataire : GUENZER, Charles; 2211 Park Boulevard, P.O. Box 60729, Palo Alto, CA 94306 (US)
Données relatives à la priorité :
11/334,803 17.01.2006 US
Titre (EN) REMOTE PLASMA PRE-CLEAN WITH LOW HYDROGEN PRESSURE
(FR) PRE-NETTOYAGE AU PLASMA A DISTANCE AVEC UNE FAIBLE PRESSION EN HYDROGENE
Abrégé : front page image
(EN)A plasma cleaning method particularly useful for removing photoresist and oxide residue from a porous low-k dielectric with a high carbon content prior to sputter deposition. A remote plasma source (52) produces a plasma primarily of hydrogen radicals H*. The hydrogen pressure may be kept relatively low, for example, at 30 milliTorr. Optionally, helium may be added to the processing gas with the hydrogen partial pressure held below 150 milliTorr. Superior results are obtained with 70% helium in 400 milliTorr of hydrogen and helium. Preferably, an ion filter, such as a magnetic filter (62, 64), removes hydrogen and other ions from the output of the remote plasma source and a supply tube (54) from the remote plasma source includes a removable dielectric liner (66) in combination with dielectric showerhead (40) and manifold liner (58).
(FR)La présente invention concerne un procédé de nettoyage au plasma particulièrement utile pour éliminer le résidu de photorésist et d’oxyde d’un diélectrique poreux à faible k ayant une teneur élevée en carbone avant le dépôt par pulvérisation. Une source de plasma à distance (52) produit un plasma constitué principalement de radicaux d'hydrogène H*. La pression en hydrogène peut être maintenue relativement basse, par exemple, à 30 milliTorrs. Eventuellement, de l'hélium peut être ajouté au gaz de traitement, la pression partielle en hydrogène étant maintenue en dessous de 150 milliTorrs. De meilleurs résultats sont obtenus avec 70 % d’hélium dans 400 milliTorrs d’hydrogène et d’hélium. De préférence, un filtre d'ions, tel qu'un filtre magnétique (62, 64), retire l’hydrogène et d'autres ions au niveau de la sortie de la source de plasma à distance et un tube d'alimentation (54) provenant de la source de plasma à distance comprend un revêtement diélectrique démontable (66) en combinaison avec un diffuseur d’eau diélectrique (40) et un revêtement du collecteur (58).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)