WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007086662) PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'UNE PHOTORÉSINE ET APPAREIL ASSOCIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086662    N° de la demande internationale :    PCT/KR2007/000208
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 12.01.2007
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
Déposants : VAMAX ENGINEERING CO., LTD. [KR/KR]; 127-15, Husa-ri, Cheongbuk-myeon, Pyeongtaek-si, Gyeonggi-do 451-831 (KR) (Tous Sauf US).
MOON, Dai-Sik [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHUN, Young-Goo [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : MOON, Dai-Sik; (KR).
CHUN, Young-Goo; (KR)
Mandataire : PARK, Young-Woo; 5F., Seil Building, #727-13, Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul 135-921 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2006-0008671 27.01.2006 KR
Titre (EN) METHOD OF REMOVING PHOTORESIST AND APPARATUS FOR PERFORMING THE SAME
(FR) PROCÉDÉ D'ÉLIMINATION D'UNE PHOTORÉSINE ET APPAREIL ASSOCIÉ
Abrégé : front page image
(EN)In a method and an apparatus for removing photoresist, a substrate is transferred in a horizontal direction by a conveyor, and a photoresist pattern and remaining impurities are removed by a plasma generator for supplying a reactive plasma, a first substrate cleaning section for supplying a cleaning solution and a second substrate cleaning section for supplying a cleaning gas. The plasma generator, the first substrate cleaning section and the second substrate cleaning section are arranged above the conveyor in a transferring direction of the substrate. Thus, the photoresist pattern and the remaining impurities may be removed in an in-line manner.
(FR)Dans un procédé et un appareil d'élimination d'une photorésine, un substrat est transféré dans une direction horizontale par un transporteur, et un motif de photorésine et des impuretés restantes sont éliminés par un générateur plasma conçu pour acheminer un plasma réactif, une première section de nettoyage de substrat servant à fournir une solution de nettoyage et une seconde section de nettoyage de substrat servant à fournir un gaz de nettoyage. Le générateur plasma, ladite première section et ladite seconde section sont disposés au-dessus du transporteur dans une direction de transfert du substrat. Ainsi, le motif de photorésine et les impuretés restantes peuvent être éliminés suivant un alignement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)