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1. (WO2007086559) PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSE TETRAHYDROPYRANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086559    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/051387
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 29.01.2007
CIB :
C07D 309/08 (2006.01), C07D 309/04 (2006.01), C07D 309/30 (2006.01)
Déposants : UBE INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 1978-96, Oaza Kogushi, Ube-shi, Yamaguchi 7558633 (JP) (Tous Sauf US).
NISHINO, Shigeyoshi; (US Seulement).
HIROTSU, Kenji; (US Seulement).
SHIMA, Hidetaka; (US Seulement).
SHIKITA, Shoji; (US Seulement).
IWAMOTO, Keiji; (US Seulement).
HARADA, Takashi; (US Seulement)
Inventeurs : NISHINO, Shigeyoshi; .
HIROTSU, Kenji; .
SHIMA, Hidetaka; .
SHIKITA, Shoji; .
IWAMOTO, Keiji; .
HARADA, Takashi;
Mandataire : TSUKUNI, Hajime; SVAX TS Bldg., 22-12, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-018413 27.01.2006 JP
2006-347890 25.12.2006 JP
2007-001798 09.01.2007 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING TETRAHYDROPYRAN COMPOUND
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN COMPOSE TETRAHYDROPYRANE
(JA) テトラヒドロピラン化合物の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for producing a 4-cyanotetrahydropyran-4-carboxylic acid ester represented by the general formula (4a) or (4b) below, which is characterized in that a bis(2-halogenoethyl) ether represented by the general formula (1) below, a cyanoacetic acid ester represented by the general formula (2) below and an alkali metal alkoxide represented by the general formula (3) below are reacted in an organic solvent. (1) (In the formula, X represents a halogen atom.) (2) (In the formula, R1 represents an alkyl group having 2-6 carbon atoms.) (3) (In the formula, R2 may be the same as or different from R1 and represents an alkyl group having 1-6 carbon atoms, and M represents an alkali metal atom.) (4a) (4b) (In the formulae, R1 and R2 are as defined above.) Also disclosed is a method for producing 4-cyanotetrahydropyran represented by the formula (5), which is characterized in that at least one 4-cyanotetrahydropyran-4-carboxylic acid ester is reacted in a solvent. Further disclosed is a method for producing tetrahydropyran-4-carboxylic acid amide represented by the general formula (6), which is characterized in that the 4-cyanotetrahydropyran and a base are reacted in a solvent.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un ester de l’acide 4-cyanotétrahydropyrane-4-carboxylique représenté par la formule générale (4a) ou (4b) ci-dessous, ledit procédé étant caractérisé en ce qu’un bis(2-halogénoéthyl) éther représenté par la formule générale (1) ci-dessous, un ester de l’acide cyanoacétique représenté par la formule générale (2) ci-dessous et un alcoxyde de métal alcalin représenté par la formule générale (3) ci-dessous sont mis en réaction dans un solvant organique. (1) (Dans la formule, X représente un atome d’halogène.) (2) (Dans la formule, R1 représente un groupement alkyle ayant de 2 à 6 atomes de carbone.) (3) (Dans la formule, R2 peut être identique ou différent de R1 et représente un groupement alkyle ayant de 1 à 6 atomes de carbone, et M représente un atome de métal alcalin.) (4a) (4b) (Dans les formules, R1 et R2 sont tels que définis ci-dessus.) L’invention concerne également un procédé de fabrication de 4-cyanotétrahydropyrane représenté par la formule (5), caractérisé en ce qu’au moins un ester de l'acide 4-cyanotétrahydropyrane-4-carboxylique est mis en réaction dans un solvant. L’invention concerne également un procédé de fabrication de l’amide de l’acide tétrahydropyrane-4-carboxylique représenté par la formule générale (6), caractérisé en ce que le 4-cyanotétrahydropyrane et une base sont mis en réaction dans un solvant.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)