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1. (WO2007086316) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE GESTION DE SUPERPOSITION, APPAREIL DE TRAITEMENT, APPAREIL DE MESURE ET APPAREIL D'EXPOSITION, SYSTÈME DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET PROGRAMME, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086316    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/050761
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 19.01.2007
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
OKITA, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OKITA, Shinichi; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-017029 26.01.2006 JP
Titre (EN) SUPERPOSITION MANAGEMENT METHOD AND APPARATUS, PROCESSING APPARATUS, MEASUREMENT APPARATUS AND EXPOSURE APPARATUS, DEVICE FABRICATION SYSTEM AND DEVICE FABRICATION METHOD, AND PROGRAM, AND INFORMATION RECORDING MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE GESTION DE SUPERPOSITION, APPAREIL DE TRAITEMENT, APPAREIL DE MESURE ET APPAREIL D'EXPOSITION, SYSTÈME DE FABRICATION DE DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF, ET PROGRAMME, ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT D'INFORMATIONS
(JA) 重ね合わせ管理方法及び装置、処理装置、測定装置及び露光装置、デバイス製造システム及びデバイス製造方法、並びにプログラム及び情報記録媒体
Abrégé : front page image
(EN)During repeated steps (step 201 to step 213) in the lot process, in step 211, an analysis apparatus (500) detects a superposition failure, i.e., deterioration of superposition accuracy and optimizes an apparatus parameter of an exposure apparatus (100) so as to eliminate the failure (improve the superposition accuracy). The optimization result is rapidly reflected by the exposure apparatus (100) or a measurement/inspection apparatus (120). Since this optimization is performed without stopping the lot process, the device productivity is not lowered.
(FR)Selon l'invention, pendant des étapes répétées (étape 201 à étape 213) dans le processus par lot, à l'étape 211, un appareil d'analyse (500) détecte une défaillance de superposition, c'est-à-dire, une détérioration de la précision de superposition, et optimise un paramètre d'appareil d'un appareil d'exposition (100) pour éliminer la défaillance (améliorer la précision de superposition). Le résultat d'optimisation est rapidement reflété par l'appareil d'exposition (100) ou un appareil de mesure/inspection (120). Étant donné que cette optimisation est réalisée sans arrêter le processus par lot, la productivité du dispositif n'est pas réduite.
(JA) ロット処理における繰り返し工程(ステップ201~ステップ213)の中で、ステップ211において、解析装置(500)で、重ね合わせの異常、すなわち重ね合わせ精度の悪化を検出し、その異常が解消させるように(重ね合わせ精度が改善されるように)、露光装置(100)の装置パラメータの最適化を行い、その最適化結果を迅速に、露光装置(100)又は測定検査器(120)に反映する。この最適化は、ロット処理を停止することなく行われるので、デバイスの生産性が低下することはない。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)