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1. (WO2007086265) PROCEDE DE FABRICATION D’UN FILM DE RETARDEMENT, FILM DE RETARDEMENT, POLARISEUR COMPORTANT UN FILM DE RETARDEMENT, PANNEAU A CRISTAUX LIQUIDES ET AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086265    N° de la demande internationale :    PCT/JP2007/050387
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 15.01.2007
CIB :
G02B 5/30 (2006.01), G02F 1/13363 (2006.01)
Déposants : NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680 (JP) (Tous Sauf US).
ITOU, Kanako [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ITOU, Kanako; (JP)
Mandataire : MOMII, Takafumi; 7th Floor, Chiyoda Building Bekkan, 6-1-2, Nishitemma, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-020885 30.01.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING RETARDATION FILM, RETARDATION FILM, POLARIZER WITH RETARDATION FILM, LIQUID-CRYSTAL PANEL, AND LIQUID-CRYSTAL DISPLAY
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D’UN FILM DE RETARDEMENT, FILM DE RETARDEMENT, POLARISEUR COMPORTANT UN FILM DE RETARDEMENT, PANNEAU A CRISTAUX LIQUIDES ET AFFICHAGE A CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 位相差板の製造方法、位相差板、位相差板付偏光板、液晶パネル、および液晶表示装置
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a retardation film showing inverse dispersion by stretching a multilayer structure. Even when the resins respectively contained in the layers have a large difference in Tg or the multilayer structure has a large thickness, an adequate stretching temperature can be set and a retardation film capable of producing a sufficient phase difference and reduced in unevenness in phase difference can be obtained. The process for retardation film production comprises: a step in which a solution comprising a resin (B) and a solvent is applied to an optical substrate comprising a resin (A) to obtain a multilayer structure comprising an optical substrate layer and a coating layer; and a step in which the multilayer structure is stretched. One of the resin (A) and the resin (B) is a resin having positive orientational birefringence and the other is a resin having negative orientational birefringence. The stretching is conducted while the amount of the solvent remaining in the multilayer structure is regulated to 2-10 wt.%
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un film de retardement présentant une dispersion inverse en étirant une structure multicouche. Même lorsque les résines respectivement contenues dans les couches ont une grande différence de Tg ou lorsque la structure multicouche a une épaisseur importante, une température d’étirement appropriée peut être choisie et un film de retardement capable de produire une différence de phase suffisante et dont l’inhomogénéité des différences de phase est réduite peut être obtenu. Le procédé de fabrication du film de retardement comprend : une étape lors de laquelle une solution comprenant une résine (B) et un solvant est appliquée sur un substrat optique comprenant une résine (A) pour obtenir une structure multicouche comprenant une couche de substrat optique et une couche de revêtement ; et une étape lors de laquelle la structure multicouche est étirée. Une résine parmi la résine (A) et la résine (B) présente une biréfringence orientationnelle positive et l’autre présente une biréfringence orientationnelle négative. L’étirement est réalisé avec une quantité de solvant restant dans la structure multicouche régulée entre 2 et 10 % en poids.
(JA) 積層体を延伸して逆分散性を有する位相差板を製造するにあたり、各層に含まれる樹脂のTgの差が大きくなるような場合や積層体の厚みが大きくなるような場合であっても、適切な延伸温度の設定が可能となり、十分な位相差が発現できるとともに位相差ムラを低減した位相差板を得ることが可能となる方法を提供する。本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Aを含む光学基材上に樹脂Bと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み;該樹脂Aまたは該樹脂Bの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり;該積層体中の残存溶媒量を2~10重量%として該延伸を行う。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)