WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007086181) COMPOSITION DE RESIST POSITIF POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/086181    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/322862
Date de publication : 02.08.2007 Date de dépôt international : 16.11.2006
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211-0012 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMIZU, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMIZU, Hiroaki; (JP)
Mandataire : TANAI, Sumio; 2-3-1, Yaesu, Chuo-ku Tokyo 104-8453 (JP)
Données relatives à la priorité :
2006-018087 26.01.2006 JP
Titre (EN) POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
(FR) COMPOSITION DE RESIST POSITIF POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCEDE DE FORMATION D'UN MOTIF DE RESIST
(JA) 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
Abrégé : front page image
(EN)A positive resist composition for immersion exposure which comprises a resin ingredient (A) which has acid-dissociable dissolution-inhibitive groups and whose alkali solubility increases by the action of an acid and an acid generator ingredient (B) which generates an acid upon exposure to light. In the positive resist composition for immersion exposure, the resin ingredient (A) comprises structural units (a1) derived from an acrylic ester having an acid-dissociable dissolution-inhibitive group and structural units (a3) derived from an acrylic ester having a polar-group-containing aliphatic hydrocarbon group, and the proportion of the structural units (a3) contained in the resin ingredient (A) is 3-12 mol% based on all the structural units constituting the resin ingredient (A).
(FR)L’invention concerne une composition de résist positif pour exposition par immersion comprenant un ingrédient de résine (A) comportant des groupements inhibant la dissolution dissociables en milieu acide et dont la solubilité en milieu alcalin augmente par action d’un acide et un ingrédient générateur d’acide (B) générant un acide par exposition à la lumière. Dans la composition de résist positif pour exposition par immersion, l’ingrédient de résine (A) comprend des unités structurales (a1) dérivées d’un ester acrylique ayant un groupement inhibant la dissolution dissociable en milieu acide et des unités structurales (a3) dérivées d’un ester acrylique comportant un groupement hydrocarboné aliphatique contenant un groupement polaire, la proportion d’unités structurales (a3) contenues dans l’ingrédient de résine (A) étant comprise entre 3 et 12 % en moles par rapport à toutes les unités structurales constituant l’ingrédient de résine (A).
(JA) 酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有する液浸露光用ポジ型レジスト組成物であって、上記樹脂成分(A)が、酸解離性溶解抑制基を有するアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、極性基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを含有し、上記樹脂成分(A)中の上記構成単位(a3)の割合が、上記樹脂成分(A)を構成する全構成単位に対し、3~12モル%である液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)