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1. (WO2007060919) COMPOSITION DE RESINE SENSIBLE AUX RADIATIONS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/060919    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/323141
Date de publication : 31.05.2007 Date de dépôt international : 21.11.2006
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR Corporation [JP/JP]; 6-10, Tsukiji 5-Chome, Chuo-Ku, Tokyo 1048410 (JP) (Tous Sauf US).
YADA, Yuuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAGAI, Tomoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : YADA, Yuuji; (JP).
NAGAI, Tomoki; (JP)
Mandataire : FUKUZAWA, Toshiaki; Room101 2-23, Nakamachidai 1-Chome, Tsuzuki-ku Yokohama-shi Kanagawa2240041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-339751 25.11.2005 JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE SENSIBLE AUX RADIATIONS
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a radiation-sensitive resin composition which contains a radiation-sensitive acid generator excellent in resolution performance, thermal stability and storage stability and which is reduced in the line width variation and pattern profile deterioration by standing wave and thus can give resist patterns improved in nano edge roughness and LEF. The composition is characterized by containing a radiation -sensitive acid generator containing (A) a sulfonium salt such as 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 2,4-difluoro- benzenesulfonate or 2,4,6-trimethylphenyldiphenylsulfonium 4-trifluoromethylbenzenesulfonate and a sulfonimide. It is preferable that the composition further contain (B) a resin such as 4-hydroxystyrene/4-t-butoxystyrene copolymer or 4-hydroxy- styrene/t-butyl (meth)acrylate copolymer.
(FR)L’invention concerne une composition de résine sensible aux radiations contenant un générateur d’acide sensible aux radiations présentant une excellente résolution, une excellente stabilité thermique et une excellente stabilité au stockage et présentant une variation de largeur de ligne réduite et une détérioration de profil par une onde stationnaire réduite, permettant d’obtenir des motifs de vernis de protection présentant une rugosité de nano bordures améliorée. La composition est caractérisée en ce qu'elle contient un générateur d'acide sensible aux radiations contenant (A) un sel de sulfonium tel que le 2,4,6-triméthylphényldiphénylsulfonium 2,4-difluoro-benzènesulfonate ou le 2,4,6-triméthylphényldiphénylsulfonium 4-trifluorométhylbenzènesulfonate et un sulfonimide. Il est préférable que la composition contienne également (B) une résine telle qu’un copolymère 4-hydroxystyrène/4-t-butoxystyrène ou un copolymère 4-hydroxy-styrène/(méth)acrylate de t-butyle.
(JA) 解像性能、熱安定性および保存安定性に優れた感放射線性酸発生剤を含有し、定在波によるパターン線幅の変動およびパターン形状の劣化を抑制でき、ナノエッジラフネスおよびLEFに優れたレジストパターンを得ることができる感放射線性樹脂組成物を提供する。  感放射線性樹脂組成物は、(A)2,4,6-トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム2,4-ジフルオロベンゼンスルホネート、2,4,6-トリメチルフェニルジフェニルスルホニウム4-トリフルオロメチルベンゼンスルホネート等で代表されるスルホニウム塩化合物およびスルホンイミド化合物を含む感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする。当該組成物は、さらに(B)4-ヒドロキシスチレン/4-t-ブトキシスチレン共重合体、4-ヒドロキシスチレン/(メタ)アクリル酸t-ブチル等で代表される樹脂を含有することが好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)