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1. (WO2007060884) MICROPARTICULE CREUSE EN SILICE, COMPOSITION DESTINEE A LA FORMATION D'UN REVETEMENT TRANSPARENT CONTENANT CETTE MICROPARTICULE ET SUBSTRAT DOTE D'UN REVETEMENT TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/060884    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/322961
Date de publication : 31.05.2007 Date de dépôt international : 17.11.2006
CIB :
C01B 33/18 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 201/00 (2006.01)
Déposants : CATALYSTS & CHEMICALS INDUSTRIES CO., LTD. [JP/JP]; 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2120013 (JP) (Tous Sauf US).
SUEYOSHI, Ryota [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURAGUCHI, Ryo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUDA, Masayuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUMAZAWA, Mitsuaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRAI, Toshiharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUEYOSHI, Ryota; (JP).
MURAGUCHI, Ryo; (JP).
MATSUDA, Masayuki; (JP).
KUMAZAWA, Mitsuaki; (JP).
HIRAI, Toshiharu; (JP)
Mandataire : ISHIDA, Masahisa; 28-10, Sannoh 1-chome Ohta-ku, Tokyo 1430023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-340617 25.11.2005 JP
Titre (EN) HOLLOW SILICA MICROPARTICLE, COMPOSITION FOR TRANSPARENT COATING FORMATION CONTAINING THE SAME, AND SUBSTRATE WITH TRANSPARENT COATING
(FR) MICROPARTICULE CREUSE EN SILICE, COMPOSITION DESTINEE A LA FORMATION D'UN REVETEMENT TRANSPARENT CONTENANT CETTE MICROPARTICULE ET SUBSTRAT DOTE D'UN REVETEMENT TRANSPARENT
(JA) 中空シリカ微粒子、それを含む透明被膜形成用組成物、および透明被膜付基材
Abrégé : front page image
(EN)Hollow silica microparticles that inhibit whitening of transparent coating and realize exhibiting of excellent scratch resistance and adherence; and a process for producing the same. There are provided hollow silica microparticles of 5 to 300 nm average particle diameter as measured by a dynamic light scattering method and 50 to 1500 m2/g specific surface area having a cavity inside each outer shell, wherein a weight loss of 1.0 wt.% or more is exhibited in the temperature range from 200° to 500°C by thermogravimetry (TG). Further, these hollow silica microparticles exhibit a positive DTA peak in differential therm retention measurement (DTA) over the temperature range from 200° to 500°C.
(FR)L'invention concerne des microparticules creuses en silice destinées à empêcher le blanchiment d'un revêtement transparent et permettant d'obtenir une excellente résistance aux éraflures et une excellente adhérence; ainsi qu'un procédé de fabrication de ces microparticules. Les microparticules creuses en silice selon l'invention présentent un diamètre moyen de particule compris entre 5 et 300 nm mesuré par une méthode dynamique de diffusion de lumière et une surface spécifique comprise entre 50 et 1500 m2/g, et comprennent une cavité dans chaque enveloppe externe, une perte de poids supérieure ou égale à 1,0 % en poids étant obtenue dans une plage de température allant de 200 à 500 °C par thermogravimétrie (TG). Ces microparticules creuses en silice présentent également un pic positif ATD lors d'une analyse thermique différentielle (ATD) sur une plage de température allant de 200 à 500 °C.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)