WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007060851) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE NERVURE ÉCRAN ET SUBSTRAT POUR SUPPORT D’AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE ET SUPPORT D’AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/060851    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/322550
Date de publication : 31.05.2007 Date de dépôt international : 13.11.2006
CIB :
G02F 1/167 (2006.01)
Déposants : BROTHER KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 15-1, Naeshiro-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678561 (JP) (Tous Sauf US).
HATTORI, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YOSHIMURA, Chisato [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HATTORI, Yasuhiro; (JP).
YOSHIMURA, Chisato; (JP)
Mandataire : KITAZAWA, Kazuhiro; 6F, First Genesis Bldg. 31-14, Yushima 2-chome Bunkyo-ku, Tokyo 113-0034 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-339927 25.11.2005 JP
Titre (EN) METHOD FOR FABRICATING BARRIER RIB AND SUBSTRATE FOR ELECTROPHORETIC DISPLAY MEDIUM AND ELECTROPHORETIC DISPLAY MEDIUM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D’UNE NERVURE ÉCRAN ET SUBSTRAT POUR SUPPORT D’AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE ET SUPPORT D’AFFICHAGE ÉLECTROPHORÉTIQUE
(JA) 電気泳動表示媒体における隔壁及び基板の製造方法、及び、電気泳動表示媒体
Abrégé : front page image
(EN)A problem with a conventional method for forming a barrier rib on a substrate by photolithography is that since a material of the substrate is different from that of the barrier rib, their different thermal expansion coefficients and other factors cause the substrate and the barrier rib to be separated from each other at the interface between them. In this invention, an electrophoretic display medium (100) comprises: a first substrate (1) and a second substrate (2) disposed so as to be opposed to each other; a dispersion medium (7) for dispersing charged particles (6) between the first substrate (1) and the second substrate (2); and a barrier rib (1b) for partitioning the region between the substrates. A method for fabricating the barrier rib (1b) and the first substrate (1) for the electrophoretic display medium (100) includes the steps of forming an electrode, mold-pressing, and mold-releasing, in which the barrier rib (1b) and a substrate (1a) are integrally formed by a thermal imprint process.
(FR)Le problème avec un procédé conventionnel de formation d'une nervure écran sur un substrat par photolithographie est que puisque le matériau du substrat est différent de celui de la nervure écran, leurs coefficients d'expansion thermique différents et d'autres facteurs entraînent la séparation du substrat et de la nervure écran à leur interface. Le support d’affichage électrophorétique (100) selon la présente invention comprend : un premier substrat (1) et un second substrat (2) disposés de façon à être opposés l'un à l'autre ; un support de dispersion (7) servant à disperser des particules chargées (6) entre le premier substrat (1) et le second substrat (2) ; et une nervure écran (1b) servant à diviser la zone entre les substrats. Les étapes du procédé selon l’invention pour fabriquer la nervure écran (1b) et le premier substrat (1) pour le support d’affichage électrophorétique (100) consistent à former une électrode, à mouler par compression, et à démouler, la nervure écran (1b) et le substrat (1a) étant réalisés intégralement par un processus d’impression thermique.
(JA) 特許文献1記載の発明のように基板上にフォトリソグラフィーにより隔壁を形成する方法では、基板の材料と隔壁の材料とが異なるために、両者の熱膨張係数の違い等から、基板と隔壁との界面で基板と隔壁が剥がれるという問題があった。本発明では、互いに対向して設けられた第一基板(1)及び第二基板(2)と、前記第一基板(1)と第二基板と(2)の基板間に帯電粒子(6)を分散させた分散媒(7)と、前記基板間の領域を区画する隔壁(1b)とを備えた電気泳動表示媒体(100)における前記隔壁(1b)及び前記第一基板(1)の製造方法において、電極形成工程と、型押し工程と、離型工程とを行い、熱インプリントで隔壁(1b)と基板(1a)とを一体に形成する。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)