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1. (WO2007058443) COMPOSITION DE DILUANT PERMETTANT D'ELIMINER LA PHOTORESINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058443    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/004638
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 07.11.2006
CIB :
G03F 7/42 (2006.01)
Déposants : DONGJIN SEMICHEM CO., LTD. [KR/KR]; Gajwa-dong 472-2, Seo-gu, Incheon-city 404-250 (KR) (Tous Sauf US).
PARK, Hee-Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
SHIN, Sung-Gun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YOON, Suk-Il [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Byung-Uk [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : PARK, Hee-Jin; (KR).
SHIN, Sung-Gun; (KR).
YOON, Suk-Il; (KR).
KIM, Byung-Uk; (KR)
Mandataire : YOU ME PATENT & LAW FIRM; Seolim Bldg., 649-10 Yoksam-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0110764 18.11.2005 KR
Titre (EN) THINNER COMPOSITION FOR REMOVING PHOTORESIST
(FR) COMPOSITION DE DILUANT PERMETTANT D'ELIMINER LA PHOTORESINE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a thinner composition for removing photoresist used in the manufacture of semiconductor devices, liquid crystal displays, or organic light emitting devices, and more particularly, to a thinner composition for removing photoresist comprising a glycol ether compound, specially a fluorinated acrylic copolymer as the surfactant, an organic solvent, or a mixture thereof. The thinner composition for removing photoresist of the present invention is capable of effectively removing unwanted photoresist at the edge and the back side of glass substrates for organic ELs, as well as those used for manufacturing liquid crystal displays, in a short period of time regardless of the particular photoresist used.
(FR)L'invention concerne une composition de diluant permettant d'éliminer la photorésine utilisée dans la production de dispositifs semi-conducteurs, d'afficheurs à cristaux liquides, ou de dispositifs électroluminescents organiques, et plus particulièrement une composition de diluant pour photorésine, comprenant un composé éther glycolique, un copolymère acrylique fluoré en tant que tensioactif, un solvant organique, ou un mélange de ceux-ci. Cette composition de diluant pour photorésine permet d'éliminer de manière rapide et efficace la photorésine non désirée, sur le bord et la face arrière des substrats de verre destinés à des dispositifs électroluminescents organiques, et des substrats utilisés pour la production d'afficheurs à cristaux liquides, quel que soit le type de photorésine utilisé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)