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1. (WO2007058442) MASQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058442    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/004592
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 06.11.2006
CIB :
A62B 18/02 (2006.01)
Déposants : BAEK, So Ra [KR/KR]; (KR)
Inventeurs : BAEK, So Ra; (KR)
Mandataire : HAN, Sang Hyuk; 3rd Floor Yaksan B/D, 891-39 Daechi4-dong,, Gangnam-gu,, Seoul 135-284 (KR)
Données relatives à la priorité :
20-2005-0032777 21.11.2005 KR
Titre (EN) A MASK
(FR) MASQUE
Abrégé : front page image
(EN)This invention made to provide a mask convenient for breathing that can allow you to breathe smoothly due to the sufficient space around the mouse and nose, lengthens the cleaning period as the space of air circulation becomes widened and increases the cold-proof and dustproof capability by preventing the gap around the nose from being generated, has a feature that the frame(20) is constituted of the nose support(24) and the chin support(26) positioned between the inner layer and outer layer of the cover attached with the hanger cords in the both sides of the cover, and this frame creates the space(16) around the mouse and the nose.
(FR)L'invention concerne un masque respiratoire qui permet de respirer régulièrement en raison d'un espace suffisant aménagé autour de la bouche et du nez, qui prolonge la période de nettoyage à mesure que l'espace de circulation d'air s'élargit et augmente la capacité frigorifuge et la capacité d'étanchéité aux poussières tout en empêchant la formation d'un écartement autour du nez. Selon une des caractéristiques de l'invention, l'armature (20) est constituée du support nasal (24) et du support menton (26) disposé entre la couche intérieure et la couche extérieure de la bande attachée à l'aide de cordelettes de suspension des deux côtés de la bande et cette armature crée l'espace (16) autour de la bouche et du nez.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)