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1. (WO2007058354) PROCEDE D’EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF UTILISANT LEDIT PROCÉDÉ, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058354    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/323148
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 21.11.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden, 5-4, Shinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-335509 21.11.2005 JP
2006-313250 20.11.2006 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME, EXPOSURE APPARATUS, AND SUBSTRATE TREATMENT METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCEDE D’EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF UTILISANT LEDIT PROCÉDÉ, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCÉDÉ ET APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 露光方法及びそれを用いたデバイス製造方法、露光装置、並びに基板処理方法及び装置
Abrégé : front page image
(EN)An exposure method for exposing a predetermined region on a substrate comprises a step of forming an immersion region (LR1) of a first liquid (LQ1) on a substrate and performing a first exposure to the predetermined region, a step of forming an immersion region (LR2) of a second liquid (LQ2) different from the first liquid on the substrate subjected to the first exposure and performing a second exposure to the predetermined region, and a step of differentiating the surface conditions (Tc1, Tc2) of the substrate between the first exposure and the second exposure. Even when the first and second exposures of a substrate are performed by a liquid immersion method, a liquid immersion region can be well formed on the substrate in each exposure and the substrate can be well exposed.
(FR)Un procédé d’exposition permettant d’exposer une région prédéterminée sur un substrat comprend une phase de formation d’une région d’immersion (LR1) d’un premier liquide (LQ1) sur un substrat et de réalisation d'une première exposition sur la région prédéterminée, une phase de formation d’une région d’immersion (LR2) d’un second liquide (LQ2) différent du premier liquide sur le substrat soumis à la première exposition et de réalisation d'une seconde exposition sur la région prédéterminée, et une phase de différenciation des conditions de surface (Tc1, Tc2) du substrat entre la première exposition et la seconde exposition. Même si l’on réalise les première et seconde expositions d’un substrat selon un procédé d’immersion de liquide, une région d’immersion de liquide peut être formée correctement sur le substrat dans chaque exposition et le substrat peut être exposé correctement.
(JA)基板上の所定領域を露光する露光方法は、基板上に第1液体(LQ1)の液浸領域(LR1)を形成して所定領域に対する第1露光を実行する動作と、第1露光が実行された基板上に第1液体とは異なる第2液体(LQ2)の液浸領域(LR2)を形成して所定領域に対する第2露光を実行する動作と、第1露光と第2露光とで基板の表面状態(Tc1、Tc2)を異ならせることを含む。液浸法を用いて基板の第1及び第2露光を行う場合にも、各露光において基板上に液体の液浸領域を良好に形成し、基板を良好に露光することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)