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1. (WO2007058345) COMPOSITION DE RESINE RADIOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058345    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/323091
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 20.11.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.09.2007    
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : JSR CORPORATION [JP/JP]; 5-6-10, Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo 1048410 (JP) (Tous Sauf US).
NAKAMURA, Atsushi; (US Seulement).
WANG, Yong; (US Seulement).
TSUJI, Takayuki; (US Seulement)
Inventeurs : NAKAMURA, Atsushi; .
WANG, Yong; .
TSUJI, Takayuki;
Mandataire : WAKI, Misao; 2-6, Shiroyama 1-chome Toin-cho, Inabe-gun, Mie 5110233 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-335848 21.11.2005 JP
Titre (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE RADIOSENSIBLE
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a radiation-sensitive resin composition that is good in the shape of a pattern provided by a liquid immersion exposure method, is excellent in resolution and focal depth latitude, and is small in amount of eluate into a refractive liquid (immersion liquid) with which the composition has come into contact during liquid immersion exposure. The radiation-sensitive resin composition is used in the formation of a photoresist film by liquid immersion exposure lithography in which a radiation is applied in such a state that a liquid for liquid immersion exposure having a refractive index of more than 1.44 and less than 1.85 at a wavelength of 193 nm is interposed between a lens and a photoresist film. The radiation-sensitive resin composition comprises a resin and a radiation-sensitive acid generator. The resin comprises a repeating unit having a lactone structure, is insoluble or sparingly soluble in an alkali, and is rendered easily soluble in an alkali through the action of an acid.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine radiosensible ayant une bonne aptitude au formage d’un motif obtenu par un procédé d’exposition par immersion liquide, dotée d’excellentes propriétés de résolution et de latitude de profondeur focale, et générant une faible quantité d’éluat dans un liquide réfringent (liquide d’immersion) avec lequel la composition entre en contact lors de l’exposition par immersion liquide. La composition de résine radiosensible sert à former un film photorésistant par lithographie en immersion liquide, le procédé consistant à appliquer un rayonnement tel qu’un liquide pour exposition par immersion liquide ayant un indice de réfraction compris entre 1,44 et 1,85 à une longueur d’onde de 193 nm est intercalé entre une lentille et un film photorésistant. La composition de résine radiosensible comprend une résine et un générateur d’acide radiosensible. La résine comprenant une unité récurrente à structure de lactone, s’avère insoluble ou peu soluble dans un milieu alcalin, mais est rendue facilement soluble dans un tel milieu sous l’action d’un acide.
(JA) 液浸露光方法で得られるパターン形状が良好であり、解像度および焦点深度余裕に優れかつ液浸露光時に接触した屈折率液体(浸漬液)への溶出物の量が少ない。レンズとフォトレジスト膜との間に、波長193nmにおける屈折率が1.44を超え、1.85未満の液浸露光用液体を介して放射線照射する液浸露光リソグラフィ方法に用いられてフォトレジスト膜を形成する感放射線性樹脂組成物であって、該感放射線性樹脂組成物がラクトン構造を有する繰り返し単位を含むアルカリ不溶またはアルカリ難溶で酸の作用によりアルカリ易溶となる樹脂と、感放射線性酸発生剤とを含有する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)