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1. (WO2007058188) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058188    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/322716
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 15.11.2006
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
INOUE, Hideya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIUCHI, Tohru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : INOUE, Hideya; (JP).
KIUCHI, Tohru; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO. Karakida Center Bldg. 1-53-9, Karakida Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-330839 15.11.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A pattern image is generated by pattern image forming apparatuses (10, 12, PL), and at least a part of the generated pattern image or a part of a pattern image generated and formed on a substance is photoelectrically detected by detecting systems (42, 48). Then, a modifying apparatus (32) modifies design data to be inputted to the pattern image generating apparatuses based on the detection results. Therefore, corresponding to the input of the modified design data, the pattern image is generated on the substance (P) by the pattern image generating apparatuses and the substance is exposed with the pattern image. Thus, a desired pattern is accurately formed on the substance.
(FR)Une image de tracé est générée par des appareils (10, 12, PL) de génération d’image de tracé, et au moins une partie de l’image de tracé générée ou une partie d'une image de tracé générée et formée sur une substance est détectée de façon photo-électrique par des systèmes de détection (42, 48). Ensuite, un appareil de modification (32) modifie les données de conception à saisir dans les appareils de génération d’image de tracé sur la base des résultats de détection. Alors, selon la saisie des données de conception modifiées, l’image de tracé est générée sur la substance (P) par les appareils de génération d’image de tracé et la substance est exposée avec l’image de tracé. Ainsi, un tracé désiré se forme avec précision sur la substance.
(JA) パターン像生成装置(10,12,PL)により、パターン像が生成され、その生成されたパターン像、又は生成されて物体上に形成されたパターン像の少なくとも一部が、検出系(42、48)によって光電的に検出される。そして、修正装置(32)は、その検出結果に基づいてパターン像生成装置に入力すべき設計データを修正する。従って、この修正後の設計データの入力に対応して、パターン像生成装置により物体(P)上にパターン像が生成され、該パターン像で物体が露光されることで、所望のパターンが物体上に精度良く形成される。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)