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1. (WO2007058151) APPAREIL DE DETECTION DE POSITION DE PLAN, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058151    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/322595
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 14.11.2006
CIB :
G01B 11/00 (2006.01), G03F 9/02 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
HIDAKA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HIDAKA, Yasuhiro; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg. 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-329645 15.11.2005 JP
2006-297486 01.11.2006 JP
Titre (EN) PLANE POSITION DETECTING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL DE DETECTION DE POSITION DE PLAN, APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DU DISPOSITIF
(JA) 面位置検出装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a plane position detecting apparatus which can highly accurately detect the position of a plane to be detected by suppressing influence, which is of a relative positional shift due to polarization components generated in a luminous flux totally reflected on the inner plane reflecting plane of a prism members, to detection of the position of the plane to be detected. At least one of a projection system and a light receiving system is provided with total reflection prism members (7;8) having the inner plane reflecting planes (7b, 7c;8b, 8c) for totally reflecting an incoming luminous flux. In order to suppress the influence, which is of the relative positional shift due to the polarization components generated in the luminous flux totally reflected on the inner plane reflecting plane of the total reflection prism members, to detection of the position of a plane (Wa) to be detected, the refraction index of an optical material forming the total reflection prism members and an incidence angle of the incoming luminous flux to the inner plane reflecting plane of the total reflection prism member are set to satisfy a prescribed relationship.
(FR)La présente invention concerne un appareil de détection de position de plan qui est en mesure de détecter de manière hautement précise la position d'un plan à détecter en supprimant l'influence, en termes d'un décalage de position relatif causé par des composantes de polarisation générées dans un flux lumineux totalement réfléchi sur le plan réfléchissant à plan interne d'un organe de prisme, sur la détection de la position du plan à détecter. Au moins l'un d'un système de projection et d'un système de réception de lumière est muni d'organes de prisme à réflexion totale (7;8) comportant les plans réfléchissants à plan interne (7b, 7c;8b, 8c) afin de réfléchir totalement un flux lumineux en entrée. Dans le but de supprimer l'influence, en termes du décalage de position relatif causé par les composantes de polarisation générées dans le flux lumineux totalement réfléchi sur le plan réfléchissant à plan interne des organes de prisme à réflexion totale, sur la détection de la position d'un plan (Wa) à détecter, l'indice de réfraction d'un matériau optique formant les organes de prisme à réflexion totale et un angle d'incidence du flux lumineux en entrée vers le plan réfléchissant à plan interne de l'organe de prisme à réflexion totale sont établis de manière à satisfaire une relation prescrite.
(JA) プリズム部材の内面反射面で全反射された光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれが被検面の面位置の検出に及ぼす影響を抑えて、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。投射系および受光系のうちの少なくとも一方は、入射光束を全反射するための内面反射面(7b,7c;8b,8c)を有する全反射プリズム部材(7;8)を備えている。全反射プリズム部材の内面反射面で全反射された光束の偏光成分による相対的な位置ずれが被検面(Wa)の面位置の検出に及ぼす影響を抑えるために、全反射プリズム部材を形成する光学材料の屈折率と全反射プリズム部材の内面反射面に対する入射光束の入射角とが所定の関係を満たすように設定されている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)