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1. (WO2007058016) PROCESSUS DE PRODUCTION D'UN MATERIAU DE BASE POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION THERMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/058016    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/318740
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 21.09.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.04.2007    
CIB :
B05D 1/36 (2006.01), C09D 5/33 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01)
Déposants : CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP) (Tous Sauf US).
SAITO, Masanori; (US Seulement).
HAMAGUCHI, Shigeo; (US Seulement).
AKAMATSU, Yoshinori; (US Seulement).
KUMON, Soichi; (US Seulement)
Inventeurs : SAITO, Masanori; .
HAMAGUCHI, Shigeo; .
AKAMATSU, Yoshinori; .
KUMON, Soichi;
Mandataire : HASHIMOTO, Takeshi; c/o Shiga Patent Office Ekisaikai Bldg. 1-29, Akashi-cho Chuo-ku, Tokyo 104-0044 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-330064 15.11.2005 JP
2006-054662 01.03.2006 JP
2006-186222 06.07.2006 JP
2006-243649 08.09.2006 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING BASE MATERIAL FOR FORMING HEAT SHIELDING FILM
(FR) PROCESSUS DE PRODUCTION D'UN MATERIAU DE BASE POUR LA FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION THERMIQUE
(JA) 熱線遮蔽膜形成基材の製法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a base material for forming a heat shielding film, comprising the step of mixing a sol solution formed from trialkoxysilane, or trialkoxysilane and tetraalkoxysilane, as a starting raw material with a solution in which tin-doped indium oxide superfine particles are dispersed to thereby prepare a treatment agent and the coating step of coating a base material with the treatment agent. In this process, the treatment agent comprises, as a dispersion medium, an organic solvent with a boiling point of 100 to 200°C. The coating in the coating step is performed by bringing a member holding the treatment agent into contact with the base material, or spraying the treatment agent onto the base material, to thereby cause the haze value of formed film to be 0.5% or less.
(FR)Processus de production d'un matériau de base pour la formation d'un film de protection thermique, comportant l'étape consistant à mélanger une solution à l'état de sol formée de trialcoxysilane ou de trialcoxysilane et de tétraalcoxysilane, faisant fonction de matière première de départ, à une solution dans laquelle sont dispersées des particules superfines d'oxyde d'indium dopé à l'étain, afin de préparer ainsi un agent de traitement, et l'étape consistant à revêtir un matériau de base à l'aide de l'agent de traitement. Dans ce processus, l'agent de traitement comprend, en tant que milieu de dispersion, un solvant organique présentant un point d'ébullition de 100 à 200°C. L'étape de revêtement est réalisée en amenant un organe contenant l'agent de traitement au contact du matériau de base ou en pulvérisant l'agent de traitement sur le matériau de base afin d'obtenir ainsi une valeur de voile du film formé inférieure ou égale à 0,5%.
(JA) トリアルコキシシラン又はトリアルコキシシランとテトラアルコキシシランとを出発原料として形成されたゾル溶液、及び錫ドープ酸化インジウム超微粒子が分散された溶液とを混合して処理剤とする工程、及び処理剤を基材に塗布する塗布工程を有する熱線遮蔽膜形成基材の製法が提供される。この製法において、前記処理剤は、沸点が100乃至200°Cの有機溶媒を分散媒として有する処理剤とし、前記塗布工程での塗布を、処理剤を保持した部材を基材に接触させる手段とすること、又は処理剤の噴霧による手段とすることで、形成される膜のヘーズ値を0.5%以下とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)