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1. (WO2007057664) PROCEDE DE DESSIN D'UN FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/057664    N° de la demande internationale :    PCT/GB2006/004261
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 15.11.2006
CIB :
G03F 7/11 (2006.01)
Déposants : IMPERIAL COLLEGE INNOVATIONS LIMITED [GB/GB]; Electrical and Electronic Engineering Building, Level 12, Imperial College, Exhibition Road, London SW7 2AZ (GB) (Tous Sauf US).
DE MELLO, John [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
BRADLEY, Donal [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
HUANG, Jingsong [CN/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : DE MELLO, John; (GB).
BRADLEY, Donal; (GB).
HUANG, Jingsong; (GB)
Mandataire : BRYN-JACOBSEN, Caelia; Kilburn & Strode, 20 Red Lion Street, London WC1R 4PJ (GB)
Données relatives à la priorité :
0523437.2 17.11.2005 GB
Titre (EN) A METHOD OF PATTERNING A THIN FILM
(FR) PROCEDE DE DESSIN D'UN FILM MINCE
Abrégé : front page image
(EN)A method of patterning a thin film, comprising: depositing an intermediate, radiation sensitive, layer on a substrate; depositing the thin film on the intermediate layer,- before or after deposition of the thin film: exposing the intermediate layer to patterned radiation in order to initiate a chemical reaction therein; and removing patterned radiation-defined parts of the intermediate layer and corresponding thin film, to leave patterned thin film and patterned intermediate layer on the substrate.
(FR)L'invention porte sur un procédé de dessin d'un film mince consistant à déposer une couche intermédiaire sensible aux radiations entre un substrat et une couche de film mince, et à utiliser un rayonnement dessiné pour dessiner le film mince.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)