WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2007057443) REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A SUPPORT DE SUBSTRAT MONTE COULISSANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/057443    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/068621
Date de publication : 24.05.2007 Date de dépôt international : 17.11.2006
CIB :
C23C 16/458 (2006.01)
Déposants : AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17, 52072 Aachen (DE) (Tous Sauf US).
FRANKEN, Walter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KÄPPELER, Johannes [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FRANKEN, Walter; (DE).
KÄPPELER, Johannes; (DE)
Mandataire : GRUNDMANN, Dirk; Corneliusstrasse 45, 42329 Wuppertal (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2005 055 252.8 19.11.2005 DE
Titre (DE) CVD-REAKTOR MIT GLEITGELAGERTEM SUSZEPTORHALTER
(EN) CVD REACTOR WITH SLIDINGLY MOUNTED SUSCEPTOR HOLDER
(FR) REACTEUR DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR A SUPPORT DE SUBSTRAT MONTE COULISSANT
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Abscheiden von mindestens einer Schicht auf einem Substrat mit einem oder mehreren Suszeptoren (7) zur Substrataufnahme, mit einem drehantreibbaren Substrathalter (6), der den Boden einer Prozesskammer (2) bildet, mit einer unterhalb des Suszeptorhalters (6) angeordneten RF-Heizung (22) und einem Gaseinlassorgan (4) zum Einleiten von Prozessgasen in die Prozesskammer. Um die gattungsgemäße Vorrichtung herstellungstechnisch und gebrauchsvorteilhaft weiterzubilden, wird vorgeschlagen, dass der Suszeptorhalter (6) gleitend auf einer im Wesentlichen IR- und / oder RF-durchlässigen Auflageplatte (14) liegt.
(EN)The invention relates to a device for depositing at least one layer on a substrate having one or more susceptors (7) for receiving substrates, comprising a substrate holder (6) that can be rotatably driven and forms the bottom of a process chamber (2), a RF heating system (22) disposed below the susceptor holder (6) and a gas inlet element (4) for introducing process gases into the process chamber. In order to further develop the generic device and to improve the production and advantages of use, it is proposed that the susceptor holder (6) lies in a sliding manner on an essentially IR- and/or RF-permeable supporting plate (14).
(FR)L'invention concerne un dispositif permettant de déposer au moins une couche sur un substrat, lequel dispositif comprend un ou plusieurs suscepteurs (7) destinés à recevoir le substrat, un support de substrat (6) pouvant être entraîné en rotation et formant le fond d'une chambre de traitement (2), un système de chauffage RF (22) placé en dessous du support de substrat (6) et un organe d'admission de gaz (4) permettant d'introduire des gaz de traitement dans la chambre de traitement. L'objectif de cette invention est de développer avantageusement ce dispositif en termes d'utilisation et de technique de fabrication. A cet effet, le support de substrat (6) repose de façon coulissante sur une plaque d'appui (14) sensiblement transparente aux infrarouges et/ou perméable aux fréquences radio.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)