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1. (WO2007055453) PLAQUETTE A TRANSITION METAL-ISOLANT ABRUPTE, ET APPAREIL ET PROCEDE DE TRAITEMENT THERMIQUE POUR LADITE PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/055453    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/002605
Date de publication : 18.05.2007 Date de dépôt international : 04.07.2006
CIB :
H01L 21/324 (2006.01)
Déposants : ELECTRONICS AND TELECOMMUNICATIONS RESEARCH INSTITUTE [KR/KR]; 161, Gajeong-dong, Yusong-gu, Daejeon-city 305-350 (KR) (Tous Sauf US).
KIM, Hyun-Tak [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHAE, Byung-Gyu [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KANG, Kwang-Yong [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YUN, Sun-Jin [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KIM, Hyun-Tak; (KR).
CHAE, Byung-Gyu; (KR).
KANG, Kwang-Yong; (KR).
YUN, Sun-Jin; (KR)
Mandataire : Y.P.LEE, MOCK & PARTNERS; 1575-1, Seocho-dong, Seocho-gu, Seoul 137-875 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0069119 28.07.2005 KR
10-2006-0015635 17.02.2006 KR
Titre (EN) ABRUPT METAL-INSULATOR TRANSITION WAFER, AND HEAT TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR THE WAFER
(FR) PLAQUETTE A TRANSITION METAL-ISOLANT ABRUPTE, ET APPAREIL ET PROCEDE DE TRAITEMENT THERMIQUE POUR LADITE PLAQUETTE
Abrégé : front page image
(EN)Provided are a wafer with the characteristics of abrupt metal-insulator transition (MIT), and a heat treatment apparatus and method that make it possible to mass-produce a large-diameter wafer without directly attaching the wafer to a heater or a substrate holder. The heat treatment apparatus includes a heater applying heat to a wafer having the characteristics of abrupt MIT and one surface covered with a thermally opaque film, and a plurality of fixing units formed along an edge portion of a top surface of the heater to fix the wafer to the heater.
(FR)L'invention concerne une plaquette présentant des caractéristiques de transition métal-isolant (MIT) abrupte, ainsi qu'un appareil et qu'un procédé de traitement thermique permettant de produire en masse des plaquettes de grand diamètre sans fixer directement la plaquette à un élément chauffant ou à un support de substrat. L'appareil de traitement thermique de l'invention comprend : un élément chauffant qui applique de la chaleur sur une plaquette présentant des caractéristiques de transition métal-isolant (MIT) abrupte et une surface recouverte par un film thermiquement opaque, ainsi qu'une pluralité d'unités de fixation formées le long d'une partie périphérique d'une surface supérieure de l'élément chauffant pour fixer la plaquette sur l'élément chauffant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)