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1. (WO2007054813) COMPOSITION DE SOUS-COUCHE DEVELOPPABLE POUR COUCHES PHOTORESISTANTES EPAISSES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/054813    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/003221
Date de publication : 18.05.2007 Date de dépôt international : 08.11.2006
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/095 (2006.01)
Déposants : AZ ELECTRONIC MATERIALS USA CORP. [US/US]; 70 Meister Avenue, Somerville, NJ 08876 (US)
Inventeurs : TOUKHY, Medhat, A.; (US).
OBERLANDER, Joseph, E.; (US).
MULLEN, Salem, K.; (US)
Données relatives à la priorité :
11/271,775 10.11.2005 US
Titre (EN) DEVELOPABLE UNDERCOATING COMPOSITION FOR THICK PHOTORESIST LAYERS
(FR) COMPOSITION DE SOUS-COUCHE DEVELOPPABLE POUR COUCHES PHOTORESISTANTES EPAISSES
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to an undercoating composition for a photoresist comprising a polymer which is insoluble in an aqueous alkali developer but becomes soluble prior to development, and a photoacid generator which produces a strong acid upon exposure to radiation, and further where the polymer is transparent at the exposure radiation. The invention also relates to a process for imaging the undercoating composition.
(FR)La présente invention concerne une composition de sous-couche pour un photorésistant comprenant un polymère qui est insoluble dans un révélateur aqueux alcalin mais qui devient soluble avant la révélation, ainsi qu’un générateur photo-acide qui produit un acide puissant lors de l’exposition au rayonnement, le polymère étant en outre transparent lors de l’exposition au rayonnement. La présente invention concerne également un procédé de représentation en image de la composition de sous-couche.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)