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1. (WO2007054443) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE REGULER L'EPAISSEUR DES COUCHES DANS UN PROCESSUS DE REVETEMENT PAR CENTRIFUGATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/054443    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/067870
Date de publication : 18.05.2007 Date de dépôt international : 27.10.2006
CIB :
B05D 1/00 (2006.01), B05D 3/02 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05C 11/08 (2006.01), B05C 21/00 (2006.01), G03F 7/16 (2006.01), G11B 7/26 (2006.01)
Déposants : SINGULUS TECHNOLOGIES AG [DE/DE]; Hanauer Landstrasse 103, 63796 Kahl am Main (DE) (Tous Sauf US).
HEINZ, Bernd [DE/CH]; (CH) (US Seulement).
YAVASER, Cem [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
PFAFF, Thomas [DE/CH]; (CH) (US Seulement).
STEINKELLER, Josef [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : HEINZ, Bernd; (CH).
YAVASER, Cem; (CH).
PFAFF, Thomas; (CH).
STEINKELLER, Josef; (CH)
Mandataire : TROESCH SCHEIDEGGER WERNER AG; Thomas J. Kreutz, Schwäntenmos 14, CH-8126 Zumikon (CH)
Données relatives à la priorité :
11/269,911 08.11.2005 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR CONTROL OF LAYER THICKNESSES BY SPIN COATING
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF PERMETTANT DE REGULER L'EPAISSEUR DES COUCHES DANS UN PROCESSUS DE REVETEMENT PAR CENTRIFUGATION
Abrégé : front page image
(EN)It is shown a method and apparatus for distributing a viscous liquid over a surface of a substrate with high homogeneity in a defined area, e. g. on a semiconductor wafer or a data storage media, by conditioning the liquid on the substrate thermally in a first step and exposing it to UV radiation in two further steps, locally specific before or during the spin coating process.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de répartir un liquide visqueux sur la surface d'un substrat avec une grande homogénéité dans une zone déterminée, p. ex. sur une plaquette de semi-conducteur ou un support d'enregistrement de données, par une première étape consistant à soumettre le liquide à un traitement thermique, suivie de deux étapes d'exposition spécifique locale à un rayonnement UV, ces étapes étant effectuées avant ou pendant le processus de revêtement par centrifugation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)