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1. (WO2007054192) IMPLANT, EN PARTICULIER STENT, ET PROCEDE POUR REALISER CET IMPLANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/054192    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/010105
Date de publication : 18.05.2007 Date de dépôt international : 19.10.2006
CIB :
A61L 31/08 (2006.01)
Déposants : FRICKE, Martin [DE/DE]; (DE)
Inventeurs : FRICKE, Martin; (DE)
Mandataire : VOLPERT, Marcus; Zeitler, Volpert Kandlbinder, Herrnstrasse 44, 80539 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2005 053 247.0 08.11.2005 DE
Titre (DE) IMPLANTAT, INSBESONDERE STENT, UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES SOLCHEN IMPLANTATS
(EN) IMPLANT, PARTICULARLY STENT, AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF SUCH AN IMPLANT
(FR) IMPLANT, EN PARTICULIER STENT, ET PROCEDE POUR REALISER CET IMPLANT
Abrégé : front page image
(DE)Implantat, insbesondere Stent, und Verfahren zum Herstellen eines solchen Implantats. Das Implantat (10), insbesondere der Stent (11), hat eine Oberfläche (15), die mit einer Dünnschicht (16) aus Titan (Ti) und Titandioxid (Ti02) beschichtet ist, wobei die Dünnschicht (16) eine äußere Oberflächenschicht (17) aus dem Ti02- Mineral Anatas aufweist. Besonders bevorzugt ist die äußere Oberflächenschicht (17) als photoaktive bzw. photoaktivierbare, insbesondere photokatalytische bzw. photosensible Oberflächenschicht ausgebildet. Das erfindungsgemäße Verfahren umfasst folgende Vakuumprozessschritte: Plasmavorbehandlung mit Abrundung der Kanten des Implantat-Basismaterials; Sputtern einer Zwischenschicht aus Titan (Ti); Sputtern einer Oberflächenschicht aus dem Ti- tandioxid(Ti02)-Mineral Anatas.
(EN)Disclosed is an implant, particularly a stent, and a method for producing such an implant. Said implant (10), especially said stent (11), has a surface (15) that is coated with a thin titanium (Ti) and titanium dioxide (TiO2) layer (16) which is provided with an outer coating (17) made of the TiO2 mineral anatase. In a particularly preferred embodiment, the outer coating (17) is configured as a photoactive or photoactivatable, especially photocatalytic or photosensitive coating. The inventive method comprises the following vacuum process steps: plasma pretreatment during which the edges of the basic implant material are smoothed; an intermediate titanium (Ti) layer is sputtered; and a coating made of the titanium dioxide (TiO2) mineral anatase is sputtered.
(FR)La présente invention concerne des implants, en particulier des stents, qui sont revêtus de médicaments anticoagulants et anti-inflammatoires qui permettent de limiter le risque de resténose. L'invention a pour objet d'améliorer de manière simple la tolérance au nouvel implant pour ainsi limiter le risque de resténose. L'invention concerne aussi un procédé pour réaliser un tel implant. L'implant (10), en particulier le stent (11), présente une surface (15) qui est revêtue d'une couche mince (16) de titane (Ti) et de dioxyde de titane (TiO2), la couche mince (16) présentant une couche de surface extérieure (17) en anatase minéral de TiO2. La couche de surface extérieure (17) est de préférence une couche de surface photo-active ou photo-activable, en particulier photocataclytique ou photosensible. Le procédé de l'invention comprend les opérations de traitement sous vide suivantes: pré-traitement au plasma avec arrondissement des arêtes du matériau de base de l'implant; pulvérisation cathodique d'une couche intermédiaire en titane (Ti); pulvérisation cathodique d'une couche de surface en anatase minérale de dioxyde de titane (TiO2). L'application sur des instruments médicaux et/ou des implants, en particulier des stents, de couches de surface photo-activables permet de limiter ou d'éviter tout risque de resténose lors de l'angioplastie transluminaire percutanée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)