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1. (WO2007053407) FILM ÉPAIS DE SILICE SANS CRAQUELURES PAR INCORPORATION DE SILICE COLLOÏDALE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/053407    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/041719
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 26.10.2006
CIB :
C08L 83/04 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01)
Déposants : HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; 101 COLUMBIA ROAD, P.o. Box 2245, Morristown, NJ 07960 (US) (Tous Sauf US).
LEUNG, Roger, Y. [US/US]; (US) (US Seulement).
NEDBAL, Jan [CZ/US]; (US) (US Seulement).
CHEN, Jinghong [CN/US]; (US) (US Seulement).
GEBREBRHAN, Amanuel, H. [ET/US]; (US) (US Seulement).
MUNOZ, Beth, C. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEUNG, Roger, Y.; (US).
NEDBAL, Jan; (US).
CHEN, Jinghong; (US).
GEBREBRHAN, Amanuel, H.; (US).
MUNOZ, Beth, C.; (US)
Mandataire : HOIRIIS, David; HONEYWELL INTERNATIONAL INC., 101 COLUMBIA ROAD, P.o. Box 2245, Morristown, NJ 07960 (US)
Données relatives à la priorité :
11/262,588 31.10.2005 US
Titre (EN) THICK CRACK-FREE SILICA FILM BY COLLOIDAL SILICA INCORPORATION
(FR) FILM ÉPAIS DE SILICE SANS CRAQUELURES PAR INCORPORATION DE SILICE COLLOÏDALE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to low temperature curable spin-on glass materials which are useful for electronic applications, such as optical devices, in particular for flat panel displays. A substantially crack-free silicon polymer film is produced by (a) preparing a composition comprising at least one silicon containing pre-polymer, colloidal silica, an optional catalyst, and optional water; (b) coating a substrate with the composition to form a film on the substrate, (c) crosslinking the composition by heating to produce a substantially crack-free silicon polymer film, having a thickness of from about 700 Å to about 20,000 Å, and a transparency to light in the range of about 400 nm to about 800 nm of about 90% or more.
(FR)L'invention concerne des matériaux en verre déposé par centrifugation (spin-on) durcissables à basse température qui sont utiles pour des applications électroniques, telles que des dispositifs optiques, en particulier pour des écrans plats. Un film de polymère du silicium pratiquement sans craquelures est produit en (a) préparant une composition comprenant au moins un prépolymère contenant du silicium, de la silice colloïdale, un catalyseur éventuel et éventuellement de l'eau ; (b) enduisant un substrat de la composition pour former un film sur le substrat ; (c) réticulant la composition en chauffant pour produire un film de polymère du silicium pratiquement sans craquelures, ayant une épaisseur allant d'environ 700 Å à environ 20 000 Å et une transparence à la lumière ayant une longueur d'onde comprise dans la plage d'environ 400 nm à environ 800 nm supérieure ou égale à environ 90 %. BYRÅ AB
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)