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1. (WO2007053375) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ZEOLITHE ENTIEREMENT COMPOSEE DE SILICE PRESENTANT UNE STRUCTURE IFR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/053375    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/041512
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 23.10.2006
CIB :
C01B 37/02 (2006.01)
Déposants : CHEVRON U.S.A. INC. [US/US]; 6001 Bollinger Canyon Road - 3rd Floor, San Ramon, CA 94583 (US) (Tous Sauf US).
CHEN, Cong-Yan [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Cong-Yan; (US)
Mandataire : SHERIDAN, Richard, J.; CHEVRON CORPORATION, LAW DEPARTMENT, Post Office Box 6006, San Ramon, CA 94583-0806 (US)
Données relatives à la priorité :
11/264,197 31.10.2005 US
Titre (EN) METHOD OF MAKING ALL-SILICA ZEOLITE WITH IFR STRUCTURE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D’UNE ZEOLITHE ENTIEREMENT COMPOSEE DE SILICE PRESENTANT UNE STRUCTURE IFR
Abrégé : front page image
(EN)An all-silica zeolite having the IFR framework topology can be directly synthesized by preparing a reaction mixture comprising (1) an active source of silicon oxide, (2) a structure directing agent comprising a N-benzyl-l,4-diazabicyclo[2.2.2] octane cation, (3) an active source of hydroxide and (4) water and maintaining the reaction mixture under conditions sufficient to form crystals of the zeolite.
(FR)L’invention concerne une zéolithe entièrement composée de silice présentant une structure IFR, ladite zéolithe pouvant être directement synthétisée en préparant un mélange réactionnel comprenant (1) une source active d’oxyde de silicium, (2) un agent dirigeant la structure comprenant un cation N-benzyl-1,4-diazabicyclo[2,2,2] octane, (3) une source active d’hydroxyde et (4) de l’eau et en maintenant le mélange réactionnel dans des conditions suffisantes pour former des cristaux de zéolithe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)