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1. (WO2007053317) EVAPORATION DECALEE PROTECTRICE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/053317    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/040822
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 20.10.2006
CIB :
C23C 14/35 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; Post Office Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US) (Tous Sauf US).
YE, Mengqi [CN/US]; (US) (US Seulement).
LIU, Zhendong [CA/US]; (US) (US Seulement).
DING, Peijun [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : YE, Mengqi; (US).
LIU, Zhendong; (US).
DING, Peijun; (US)
Mandataire : KONRAD, William, K.; KONRAD RAYNES & VICTOR LLP, 315 S. Beverly Drive #210, Beverly Hills, CA 90212 (US)
Données relatives à la priorité :
11/260,899 28.10.2005 US
11/262,193 28.10.2005 US
11/389,610 23.03.2006 US
Titre (EN) PROTECTIVE OFFSET SPUTTERING
(FR) EVAPORATION DECALEE PROTECTRICE
Abrégé : front page image
(EN)Sputtering in a physical vapor deposition (PVD) chamber (100) may, in one embodiment, utilize a target (220) laterally offset from and tilted with respect to the substrate (186). In another aspect, target power may be reduced to enhance film protection. In yet another aspect magnetron magnets may be relatively strong and well balanced to enhance film protection. In another aspect, a shutter may be provided to protect the substrate in start up conditions. Other embodiments are described and claimed.
(FR)La présente invention concerne une évaporation dans une chambre de dépôt physique en phase gazeuse (PVD) qui, dans un mode de réalisation, peut utiliser une cible décalée latéralement et inclinée par rapport au substrat. Dans un autre mode de réalisation, une puissance cible peut être réduite afin de renforcer la protection du film. Selon un mode de réalisation encore différent, des aimants de magnétron peuvent être relativement résistants et bien équilibrés pour renforcer la protection du film. Selon un autre mode de réalisation, un obturateur peut être prévu afin de protéger le substrat dans des conditions de démarrage. L'invention porte aussi sur d'autres modes de réalisation revendiqués.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)