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1. (WO2007052949) ANALYSE STATISTIQUE DE LA DÉTECTION ET DE LA CLASSIFICATION DES DÉFAUTS DANS LA FABRICATION DES SEMICONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/052949    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/004506
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 01.11.2006
CIB :
H01L 21/02 (2006.01)
Déposants : ISEMICON, INC [KR/KR]; 304, Daejeon S/W Center, 48 Jang-dong Yuseong-gu, Daejeon 305-715 (KR) (Tous Sauf US).
KOO, Heung Seob [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Jae Keun [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KOO, Heung Seob; (KR).
LEE, Jae Keun; (KR)
Mandataire : LEE, Cheol Hee; 2F, Woo Kyeong Bldg., 156-13, Samseong-dong, Kangnam-ku, Seoul 135-090 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0103590 01.11.2005 KR
Titre (EN) THE STATISTIC ANALYSIS OF FAULT DETECTION AND CLASSIFICATION IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
(FR) ANALYSE STATISTIQUE DE LA DÉTECTION ET DE LA CLASSIFICATION DES DÉFAUTS DANS LA FABRICATION DES SEMICONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)A method of fault detection and classification in semiconductor manufacturing is provided. In the method, delicate variations of actual data of parameters for which normal values of a manufacturing condition change according to time are detected very precisely and sensitively, and accordingly major variation components for a step which has a high occurrence occupancy are acquired to achieve a very precise and effective fault detection and classification (FDC). In the method, continuous steps in a process are regarded as separate processes which are not related to each other and covariance and covariance inverse matrixes acquired for each step are set as references to decrease values of variance or covariance compared with those for a case where references are calculated based on total steps. Accordingly, Hotel ling's T-square values for a small variation are increased, so that a delicate variation can be sensitively detected.
(FR)L'invention porte sur un procédé de détection et de classification des défauts dans la fabrication des semiconducteurs. Le procédé de l'invention permet de détecter de manière très précise et sensible de légères variations des données réelles de paramètres pour lesquels les valeurs normales d'un état de fabrication changent avec le temps et, par conséquent, d'acquérir des composantes majeures de variation pour une étape présentant un taux élevé d'occurrences, le tout permettant d'arriver à une détection et une classification très précises et efficaces des défauts ('fault detection and classification' ou FDC). Selon le procédé précité, on considère les étapes continues d'un processus comme des processus séparés sans lien les uns avec les autres et l'on établit comme références des matrices de covariance et des matrices de covariance inverses acquises pour chaque étape afin de réduire les valeurs de variance ou de covariance par comparaison avec celles qui sont obtenues lorsque les références sont calculées sur la base des étapes considérées dans leur totalité. On obtient de la sorte des valeurs T de Hotelling au carré augmentées pour une petite variation, ce qui permet de détecter de manière sensible même une légère variation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)