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1. (WO2007052711) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/052711    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/321890
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 01.11.2006
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01), H05H 1/46 (2006.01)
Déposants : MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
HIROSHIMA, Mitsuru; (US Seulement).
ASAKURA, Hiromi; (US Seulement).
WATANABE, Syouzou; (US Seulement).
OKUNE, Mitsuhiro; (US Seulement).
SUZUKI, Hiroyuki; (US Seulement).
HOUTIN, Ryuuzou; (US Seulement)
Inventeurs : HIROSHIMA, Mitsuru; .
ASAKURA, Hiromi; .
WATANABE, Syouzou; .
OKUNE, Mitsuhiro; .
SUZUKI, Hiroyuki; .
HOUTIN, Ryuuzou;
Mandataire : TANAKA, Mitsuo; AOYAMA & PARTNERS, IMP Building, 3-7, Shiromi 1-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-319575 02.11.2005 JP
2005-329756 15.11.2005 JP
2006-275409 06.10.2006 JP
2006-294334 30.10.2006 JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
Abrégé : front page image
(EN)A plasma processing apparatus is provided with a beam-like spacer (7) arranged on an upper opening of a chamber (3) which faces a substrate (2). The beam-like spacer (7) is provided with an annular outer circumference portion (7a) supported by the chamber (3) on its lower plane (7d), a center portion (7b) positioned at the center of a region surrounded by the outer circumference portion (7a) in plane view, and a plurality of beam portions (7c) radially extending from the center portion (7b) to the outer circumference portion (7a). The entire dielectric plate (8) is uniformly supported by the beam-like spacer (7). The dielectric plate (8) is thinned, while ensuring mechanical strength for holding atmospheric pressure when inside the chamber (3) is depressurized.
(FR)Le dispositif de traitement plasma selon l’invention comporte une entretoise (7) en forme de faisceau disposée sur une ouverture supérieure d’une chambre (3) qui fait face à un substrat (2). L’entretoise (7) en forme de faisceau comporte une partie de circonférence externe annulaire (7a) supportée par la chambre (3) sur son plan inférieur (7d), une partie centrale (7b) positionnée au centre d’une zone entourée par la partie de circonférence externe (7a) en vue de dessus, et une pluralité de parties en faisceaux (7c) s’étendant radialement depuis la partie centrale (7b) vers la partie de circonférence externe (7a). La totalité de la plaque diélectrique (8) est supportée uniformément par l’entretoise (7) en forme de faisceau. La plaque diélectrique (8) est amincie, tout en assurant sa résistance mécanique pour supporter la pression atmosphérique lorsque l'intérieur de la chambre (3) est dépressurisé.
(JA) プラズマ処理装置は、基板2と対向するチャンバ3の上部開口に配置された梁状スペーサ7を備える。梁状スペーサ7は、チャンバ3によってその下面7dが支持される環状の外周部7aと、平面視で外周部7aによって囲まれた領域の中央に位置する中央部7bと、中央部7bから外周部7aまで放射状に延びる複数の梁部7cとを備える。誘電体板8は梁状スペーサ7によってその全体が均一に支持される。チャンバ3内を減圧した際に大気圧を支持するための機械的強度を確保しつつ、誘電体板8を薄型化できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)