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1. (WO2007052555) AGENT DE POLISSAGE A BASE DE CERIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/052555    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/321508
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 27.10.2006
CIB :
C09K 3/14 (2006.01), B24B 37/00 (2012.01)
Déposants : MITSUI MINING & SMELTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-11-1, Osaki, Shinagawa-ku, Tokyo 1418584 (JP) (Tous Sauf US).
URYU, Hiromi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
UCHINO, Yoshitsugu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : URYU, Hiromi; (JP).
UCHINO, Yoshitsugu; (JP)
Mandataire : TANAKA AND OKAZAKI; Hongo K & K Bldg. 30-10, Hongo 3-chome Bunkyo-ku, Tokyo 1130033 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-318988 02.11.2005 JP
Titre (EN) CERIUM POLISHING AGENT
(FR) AGENT DE POLISSAGE A BASE DE CERIUM
(JA) セリウム系研摩材
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a high-purity cerium polishing agent having a high cerium oxide content, which is improved in polishing rate. Specifically disclosed is a cerium polishing agent wherein the cerium oxide content relative to the total rare earth oxide (TREO) is not less than 90% by mass. This cerium polishing agent is characterized in that at least one specific element selected from the group consisting of Ti and group 5-12 elements having an atomic number of 80 or less is contained in an amount of 0.01-2.0% by mass relative to the total mass of the polishing agent.
(FR)La présente invention concerne un agent de polissage à base de cérium de grande pureté ayant une teneur élevée en oxyde de cérium et dont le taux de polissage est amélioré. La présente invention concerne plus spécifiquement un agent de polissage à base de cérium dont la teneur en oxyde de cérium par rapport à la somme totale des oxydes de terre rare (SOTR) n'est pas inférieure à 90 % en masse. Cet agent de polissage à base de cérium est caractérisé en ce qu’au moins un élément spécifique choisi dans le groupe constitué par Ti et les éléments des groupes 5 à 12 ayant un numéro atomique ne dépassant pas 80 est contenu en une quantité allant de 0,01 à 2,0 % en masse par rapport à la masse totale de l'agent de polissage.
(JA) 本発明は、酸化セリウム含有量が高い高純度セリウム系研摩材であって、研摩速度の改善がなされたものを提供することを目的とする。本発明は、全希土類酸化物(TREO)に対する酸化セリウム含有量が90質量%以上であるセリウム系研摩材において、Ti及び原子番号80以下の5族~12族の元素から選択される少なくとも1種の特定元素を研摩材全量に対して0.01~2.0質量%含有することを特徴とするセリウム系研摩材に関する。    
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)