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1. (WO2007052483) APPAREIL DE FILTRAGE D’ONDES ELASTIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/052483    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/320920
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 20.10.2006
CIB :
H03H 9/64 (2006.01)
Déposants : MURATA MANUFACTURING CO., LTD. [JP/JP]; 10-1, Higashikotari 1-chome, Nagaokakyo-shi, Kyoto 6178555 (JP) (Tous Sauf US).
KURODA, Katsuhito [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KURODA, Katsuhito; (JP)
Mandataire : MIYAZAKI, Chikara; 6F, Daido Seimei Bldg. 5-4, Tanimachi 1-chome Chuo-ku, Osaka-shi Osaka 5400012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-318414 01.11.2005 JP
Titre (EN) ELASTIC WAVE FILTER APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FILTRAGE D’ONDES ELASTIQUES
(JA) 弾性波フィルタ装置
Abrégé : front page image
(EN)An elastic wave filter apparatus having a passing band on the lower frequency side of a trap and also having a second attenuating band on the higher frequency side of the trap wherein the bandwidth of the passing band has been sufficiently widened. An elastic wave filter apparatus (1) comprises a first filter circuit part (2) in which a first inductor (L1a), which is inserted in a series arm connecting an input terminal (IN) and an output terminal (OUT), is series connected to a first elastic wave resonator (S1a); and a second filter circuit part (3) that has a second inductor (L2), which is inserted in the series arm, and second and third elastic wave resonators (P1,P2) each connected between a respective end of the second inductor (L2) and the ground potential. In the elastic wave filter apparatus (1), a relationship of f1 < f2 is established, where f1 is a first center frequency that is the center frequency of the passing band, and f2 is a second center frequency that is the center frequency of a filter constituted by the inductances of the first and second inductors (L1a, L2) and by the capacitances of the first through third elastic wave resonators (S1a,P1,P2).
(FR)La présente invention concerne un appareil de filtrage d’ondes élastiques qui comprend une bande passante sur le côté de fréquence inférieure d’une tension trapézoïdale ainsi qu’une seconde bande d’atténuation disposée sur le côté de fréquence supérieure de la tension trapézoïdale, la largeur de bande de la bande passante ayant été suffisamment augmentée. Un appareil de filtrage d’ondes élastiques (1) comprend : une première partie de circuit de filtre (2) dans lequel un premier inducteur (L1a), qui est inséré dans une branche longitudinale raccordant un terminal d’entrée (IN) à un terminal de sortie (OUT), est monté en série à un premier résonateur d’ondes élastiques (S1a) ; et une seconde partie de circuit de filtre (3) qui possède un second inducteur (L2), qui est inséré dans la branche longitudinale, ainsi qu’un second et troisième résonateur d’ondes élastiques (P1, P2) chacun raccordé à une extrémité respective du second inducteur (L2) et au potentiel de terre. Dans l’appareil de filtrage d’ondes élastiques (1), la relation suivante f1 < f2 est établie, f1 correspondant à une première fréquence centrale qui est la fréquence centrale de la bande passante, et f2 correspondant à une seconde fréquence centrale qui est la fréquence centrale d’un filtre se composant des inductances des premier et second inducteurs (L1a, L2) et des capacitances des premier au troisième résonateurs d’ondes élastiques (S1a, P1, P2).
(JA) トラップの低域側に通過帯域を有し、トラップの高域側に第2の減衰域を有し、通過帯域における帯域幅が十分に拡げられている弾性波フィルタ装置を提供する。  第1のフィルタ回路部2が、入力端子INと出力端子OUTとを結ぶ直列腕に挿入された第1のインダクタL1aと、第1の弾性波共振子S1aと直列に接続した構成を有し、第2のフィルタ回路部3が、直列腕に挿入された第2のインダクタL2と、第2のインダクタL2の一端及び他端とグラウンド電位との間に接続された第2,第3の弾性波共振子P1,P2とを有し、通過帯域中心周波数を第1の中心周波数f1とし、第1,第2のインダクタL1a,L2のインダクタンスと第1~第3の弾性波共振子S1a,P1,P2の容量とで構成されるフィルタの中心周波数を第2の中心周波数f2としたときに、f1<f2とされている、弾性波フィルタ装置1。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)