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1. (WO2007052330) COMPOSE CHALCONE REDUIT ET SON PROCEDE DE PRODUCTION, PRODUIT REDUIT D’EXTRAIT DE BATON DE REGLISSE LIPOSOLUBLE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION, INHIBITEUR D’ACTIVITE DE CYCLOOXYGENASE-2, AGENT DE BLANCHIMENT, AGENT ANTI-INFLAMMATOIRE ET PRODUIT COSMETIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/052330    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/020022
Date de publication : 10.05.2007 Date de dépôt international : 31.10.2005
CIB :
C07C 43/23 (2006.01), A61K 8/00 (2006.01), A61K 8/30 (2006.01), A61K 8/96 (2006.01), A61K 31/085 (2006.01), A61K 31/122 (2006.01), A61K 36/48 (2006.01), A61Q 19/02 (2006.01), C07C 41/44 (2006.01), C07C 45/85 (2006.01), C07C 49/84 (2006.01)
Déposants : MARUZEN PHARMACEUTICALS CO., LTD. [JP/JP]; 14703-10, Mukaihigashi-cho, Onomichi-shi, Hiroshima 7220062 (JP) (Tous Sauf US).
ITO, Yoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAKE, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKADA, Kenzo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ITO, Yoko; (JP).
MIYAKE, Yasuo; (JP).
OKADA, Kenzo; (JP)
Mandataire : HIROTA, Koichi; HIROTA, NAGARE & ASSOCIATES 4th Floor, Shinjuku TR Bldg. 2-2-13, Yoyogi Shibuya-ku, Tokyo 1510053 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) REDUCED CHALCONE COMPOUND AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, REDUCED PRODUCT OF FAT-SOLUBLE LICORICE ROOT EXTRACT AND METHOD OF PRODUCING THE SAME, CYCLOOXYGENASE-2 ACTIVITY INHIBITOR, WHITENING AGENT, ANTIINFLAMMATORY AGENT AND COSMETIC
(FR) COMPOSE CHALCONE REDUIT ET SON PROCEDE DE PRODUCTION, PRODUIT REDUIT D’EXTRAIT DE BATON DE REGLISSE LIPOSOLUBLE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION, INHIBITEUR D’ACTIVITE DE CYCLOOXYGENASE-2, AGENT DE BLANCHIMENT, AGENT ANTI-INFLAMMATOIRE ET PRODUIT COSMETIQUE
(JA) カルコン還元体及びその製造方法、油溶性甘草抽出物の還元処理物及びその製造方法、シクロオキシゲナーゼ-2活性阻害剤、並びに美白剤、抗炎症剤、及び化粧料
Abrégé : front page image
(EN)It is intended to provide a reduced chalcone compound represented by the following structural formula (1), and a whitening agent, an antiinflammatory agent and a cosmetic containing this reduced chalcone compound. Structural formula (1) In the above structural formula (1), R1 represents an oxygen atom, a hydroxyl group or a hydrogen atom. R2 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkyl group. R3 represents a hydrogen atom or a hydroxyl group. R4 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkoxy group. R5 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group or an alkylene group.
(FR)La présente invention concerne un composé chalcone réduit représenté par la formule développée (1), et un agent de blanchiment, un agent anti-inflammatoire et un produit cosmétique contenant ce composé chalcone réduit. Formule développée (1) Dans la formule développée (1), R1 représente un atome d'oxygène, un groupe hydroxyle ou un atome d'hydrogène. R2 représente un atome d'hydrogène, un groupe hydroxyle ou un groupe alkyle. R3 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydroxyle. R4 représente un atome d'hydrogène, un groupe hydroxyle ou un groupe alcoxy. R5 représente un atome d'hydrogène, un groupe hydroxyle ou un groupe alkylène.
(JA)下記構造式(1)で表されるカルコン還元体、並びに該カルコン還元体を含有する美白剤、抗炎症剤、及び化粧料を提供する。 ただし、前記構造式(1)中、Rは酸素原子、及び水酸基と水素原子のいずれかを表す。Rは水素原子、水酸基及びアルキル基のいずれかを表す。Rは水素原子及び水酸基のいずれかを表す。Rは水素原子、水酸基及びアルコキシ基のいずれかを表す。Rは水素原子、水酸基及びアルキレン基のいずれかを表す。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)