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1. (WO2007050428) PROCEDE ET APPAREIL VISANT A FACILITER LE TEST DE DISPOSITIFS A SEMI-CONDUCTEURS IMPRIMES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/050428    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/040894
Date de publication : 03.05.2007 Date de dépôt international : 19.10.2006
CIB :
G01L 9/00 (2006.01)
Déposants : MOTOROLA INC. [US/US]; 1303 East Algonquin Road, Schaumburg, Illinois 60196 (US) (Tous Sauf US).
BRAZIS, Paul, W. [US/US]; (US) (US Seulement).
GAMOTA, Daniel, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
KALYANASUNDARAM, Krishna [IN/US]; (US) (US Seulement).
ZHANG, Jie [US/US]; (US) (US Seulement).
JONNALAGADDA, Krishna, D. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BRAZIS, Paul, W.; (US).
GAMOTA, Daniel, R.; (US).
KALYANASUNDARAM, Krishna; (US).
ZHANG, Jie; (US).
JONNALAGADDA, Krishna, D.; (US)
Mandataire : NICHOLS, Daniel, K.; 1303 East Algonquin Road, Schaumburg, Illinois 60196 (US)
Données relatives à la priorité :
11/258,747 26.10.2005 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS TO FACILITATE TESTING OF PRINTED SEMICONDUCTOR DEVICES
(FR) PROCEDE ET APPAREIL VISANT A FACILITER LE TEST DE DISPOSITIFS A SEMI-CONDUCTEURS IMPRIMES
Abrégé : front page image
(EN)A printing platform receives (102) (preferably in-line with a semiconductor device printing process (101)) a substrate having at least one semiconductor device printed thereon and further having a test structure printed thereon, which test structure comprises at least one printed semiconductor layer. These teachings then provide for the automatic testing (103) of the test structure with respect to at least one static (i.e., relatively unchanging) electrical characteristic metric. The static electrical characteristic metric (or metrics) of choice will likely vary with the application setting but can include, for example, a measure of electrical resistance, a measure of electrical reactance, and/or a measure of electrical continuity. Optionally (though preferably) the semiconductor device printing process itself is then adjusted (105) as a function, at least in part, of this metric.
(FR)Selon l'invention, une plate-forme d'impression reçoit (102) (de préférence en continu avec un procédé d'impression de dispositif à semi-conducteurs (101)) un substrat sur lequel sont imprimés au moins un dispositif à semi-conducteurs et une structure de test, ladite structure de test comprenant au moins une couche semi-conductrice imprimée. Le test automatique (103) de ladite structure de test peut ainsi être effectué par rapport à une mesure caractéristique électrique statique (c'est à dire, relativement invariable). La ou les mesures caractéristiques électriques statiques sélectionnées sont susceptibles de varier selon le paramétrage de l'application mais peuvent comprendre, par exemple, une mesure de résistance électrique, une mesure de réactance électrique, et/ou une mesure de continuité électrique. Eventuellement (et de préférence), le procédé d'impression de dispositif à semi-conducteurs est par la suite ajusté (105) en fonction, au moins partiellement, de ladite mesure.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)