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1. (WO2007049873) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D’ÉLABORATION DE POUDRE SUR LAQUELLE ON DÉPOSE SOUS VIDE DES NANOPARTICULES DE MÉTAL, D’ALLIAGE, ET DE CÉRAMIQUE DE MANIÈRE UNIFORME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2007/049873    N° de la demande internationale :    PCT/KR2006/004167
Date de publication : 03.05.2007 Date de dépôt international : 16.10.2006
CIB :
B82B 3/00 (2006.01)
Déposants : P & I CORPORATION [KR/KR]; 485, Sangbong 1-dong, Jungnang-gu, Seoul 131-221 (KR) (Tous Sauf US).
KOH, Seok Keun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
BEAG, Young Whoan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
CHO, Jun Sik [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JOO, Jae Ho [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
HAN, Young Gun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
LEE, Jung Hwan [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
YO, Un Jung [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : KOH, Seok Keun; (KR).
BEAG, Young Whoan; (KR).
CHO, Jun Sik; (KR).
JOO, Jae Ho; (KR).
HAN, Young Gun; (KR).
LEE, Jung Hwan; (KR).
YO, Un Jung; (KR)
Mandataire : CHAE, Jong Kil; Sayhwa International Patent & Law Firm, 6th Floor, Sungbo Building, 718-24 Yeoksam-dong, Gangnam-gu, Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2005-0101112 26.10.2005 KR
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR REPARING POWDER ON WHICH NANO METAL, ALLOY, AND CERAMIC PARTICLES ARE UNIFORMLY VACUUM-DEPOSITED
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF D’ÉLABORATION DE POUDRE SUR LAQUELLE ON DÉPOSE SOUS VIDE DES NANOPARTICULES DE MÉTAL, D’ALLIAGE, ET DE CÉRAMIQUE DE MANIÈRE UNIFORME
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a method and device for preparing powder by depositing nano metal, alloy, ceramic particles that are excellent in size uniformity, on a surface of the powder that is a base, using a vacuum deposition method. In particular, the present invention provides a method and device for preparing the powder on which the nano metal, alloy, and ceramic particles of a very uniform size are deposited, by simultaneously performing deposition and agitation using an effective agitation means for solving a disadvantage of a conventional method where deposition and agitation are separately performed. Also, the present invention provides a method and device for preparing the powder on which nano particles are deposited, in which a nano characteristic is kept by preventing a coalescence phenomenon of nano particles even when a deposition time for increasing contents of the nano particles increases in their preparation.
(FR)La présente invention concerne un procédé et un dispositif d’élaboration de poudre par déposition de nanoparticules de métal, d’alliage, et de céramique qui sont d’une excellente uniformité de taille, à la surface de la poudre constituant une base, selon un procédé de déposition sous vide. En particulier, la présente invention porte sur un procédé et un dispositif d’élaboration de la poudre sur laquelle on dépose des nanoparticules de métal, d’alliage, et de céramique de taille très uniforme, par déposition et agitation simultanée en utilisant un moyen d’agitation efficace pour résoudre l’inconvénient d’un procédé conventionnel dans lequel la déposition et l’agitation sont réalisées séparément. De même, la présente invention porte sur un procédé et un dispositif d’élaboration de la poudre sur laquelle on dépose des nanoparticules, permettant de préserver une nanocaractéristique en empêchant tout phénomène de coalescence de nanoparticules même si le temps de déposition permettant d’augmenter la teneur en nanoparticules rallonge l'élaboration de celles-ci.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SV, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)